Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301836 à vendre en France

ID: 9301836
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Etcher, 12" (3) FI Port FI Robot: TBC PC: TBC Thickness metrology: NANOMETRICS 9010 Integrated metrology (1000-00829) Mainframe: Centura AP Xfer robot: VHP Ceramic blade Chamber A: DPS Tsubasa Chamber B: DPS Advance edge EDWARDS Turbo pump Controller: SCV-1500 Gate valve: VAT RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513 and Apex 3013 Gases: MFC No / Make / Gases / SCCM 31 / CELERITY / SiCl4 / 100 32 / CELERITY / Cl2 / 100 33 / CELERITY / CH2F2 / 100 34 / CELERITY / BCl3 / 400 35 / CELERITY / NF3 / 100 36 / CELERITY / H2 / 200 37 / CELERITY / HBr / 500 38 / CELERITY / C4F8 / 100 39 / HORIBA / O2 / 200 40 / CELERITY / Ar / 200 41 / CELERITY / N2 / 50 42 / CELERITY / CF4 / 200 43 / CELERITY / CHF3 / 200 44 / CELERITY / H2 / 200 Chamber D: Axiom MFC No / Make / Gases / SCCM 37 / CELERITY / O2 / 10000 38 / CELERITY / 4%H2/N2 / 500 40 / CELERITY / N2 / 10000 Chiller: Chamber A and B: SMC INR-498-043A Chamber A: SMC INR-498-016 Chamber B: SMC INR-498-003D Xfer and L/L pump: TOYOTA T100L Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) (3) Dry pumps 2005 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS est un réacteur polyvalent conçu pour la gravure et le dépôt de matériaux dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. AMAT Centura DPS fonctionne comme une unité autonome complète, capable de créer des solutions de traitement rentables et fiables pour de multiples applications de processus. La conception à double chambre du DPS le rend idéal pour une utilisation à plusieurs niveaux, lui permettant d'immerger simultanément des substrats et d'effectuer des opérations de gravure complexes et des tâches de dépôt de matériaux. La chambre double est optimisée pour supporter jusqu'à 7 conduites de gaz de procédé ; alors que la première chambre est garnie de quartz et fonctionne à une température comprise entre 75 et 325 degrés Celsius, la seconde chambre supporte jusqu'à 16 plateaux de quartz et fonctionne à une température de -10 à 600 degrés Celsius. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS a été conçu avec une gamme complète de contrôles, permettant une exécution optimale de diverses tâches de processus. Par exemple, la chambre est équipée de dispositifs de contrôle du vide, de l'adaptation et de la purge ; régulateurs de température ; et les fonctions des compteurs multi-gaz. En outre, la conception de la cavité du système permet une intégration facile des chargeurs monobloc ou par lots et la conception mécanique décentralisée garantit un entretien rapide et facile. MATÉRIAUX APPLIQUÉS/Centura DPS prend en charge un large éventail de procédés de fabrication tels que le repli, la croissance d'oxyde, le dépôt d'oxynitrure, le décollage laser et le dépôt d'alkylsilicate. La fiabilité n'est pas compromise lorsqu'il s'agit de tâches telles que le cendrage d'oxyde, le dépôt d'oxyde, le dépôt de nitrure, le strippage ou la gravure, ou le liftoff. De plus, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS est construit avec des préoccupations supérieures en matière de sécurité et d'environnement ; il s'agit d'un appareil homologué UL chargé de soupapes d'arrêt d'urgence et de gaz de procédé non inflammables. AMAT/APPLIED MATERIALS/AMAT Centura DPS est le choix idéal pour une gamme d'applications de fabrication. Il offre un contrôle complet du processus et la flexibilité, combinée avec un entretien facile et une grande fiabilité. La machine est conçue pour un fonctionnement robuste, la fiabilité et les performances à long terme, optimisant l'efficacité et la qualité des processus de traitement des semi-conducteurs.
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