Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 à vendre en France

ID: 9301844
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Etcher, 12" PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type Mainframe: Centura AP Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater) EDWARDS Turbo pump Controller: SCV-1500 Gate valve: VAT RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513 KASHIYAMA MU-603X Dry pump Gases: MFC No / Make / Gases / SCCM 1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20 2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200 3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400 4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400 5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300 6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400 7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400 8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500 9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200 10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200 11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400 12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70 13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70 14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100 15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100 16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100 17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100 19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100 20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300 22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100 23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200 24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400 FPC / MKS / N2 / 1000 Chamber C: DPS G5 EDWARDS Turbo pump Controller: SCV-1500 Gate valve: VAT RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513 Dry pump missing Gases: MFC No / Make / Gases / SCCM 1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20 2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200 3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300 4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400 5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300 6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400 7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400 8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500 9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300 10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200 11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200 12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70 13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30 14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100 15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100 16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100 17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200 18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100 19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100 20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300 21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30 22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100 23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200 24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300 FPC / MKS / N2 / 1000 Chamber D: ASP (RF type) RF Generator: ADVANCED ENERGY KASHIYAMA MU-603X Dry pump Gases: MFC No / Make / Gases / SCCM 37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000 38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000 40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000 Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) Dry pump 2007 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Les réacteurs Centura DPS (Dynamic Process Equipment) sont un système de procédé utilisé dans la fabrication de composants microélectroniques tels que les semi-conducteurs, les puces à mémoire et les microprocesseurs. Le réacteur utilise une série de matériaux de qualité industrielle pour créer un environnement autonome dans lequel la gravure, le dépôt et le nettoyage des couches microélectroniques sont effectués de manière fiable. La chambre DPS dispose d'un large éventail de capacités et est conçue pour une configuration facile pour des projets spécifiques, offrant une excellente répétabilité, uniformité et tolérance aux défauts. Dans l'unité AMAT Centura DPS, on utilise un chauffage à haut rendement et à basse génération pour créer une température de chambre allant jusqu'à 250 ° C La température est importante pour le décapage des résines et le nettoyage des résines photosensibles. Le chauffage comprend un ventilateur à convection forcée pour assurer une température uniforme dans la chambre et une buse de douche rétractable pour répartir uniformément la chaleur. En outre, le chauffage comprend également la capacité de refroidissement de l'eau pour éviter les fuites thermiques. Une machine de distribution d'aérosols à chambre de procédé exclusive est utilisée pour contrôler la température de la chambre et prévenir la contamination. L'outil de distribution des aérosols fonctionne en séparant l'air entrant en solides et en vapeurs, puis en contrôlant la température et l'humidité de la chambre. Il utilise également un élément bi-filtrant pour s'assurer que les seuls contaminants entrant dans la chambre sont ceux nécessaires au procédé. Le contrôleur robuste est conçu pour une utilisation facile, avec un bouton à cadran unique pour ajuster les paramètres du processus et les conditions de la chambre. Il est capable de contrôler des paramètres tels que la pression, la température et l'humidité dans la chambre, ainsi qu'un certain nombre d'autres paramètres propres au procédé. La flexibilité du modèle de contrôleur facilite également la personnalisation des recettes pour les différentes zones d'application et la surveillance des processus pendant le processus de fabrication. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS est un élément important du processus de fabrication de la microélectronique. Il garantit que les processus de gravure et de dépôt sont effectués avec précision, tout en offrant un environnement dans lequel la résistance au décapage et au nettoyage peut être complétée de manière sûre et efficace. Le large éventail de capacités, la nature configurable et l'équipement de contrôle intégré font de Centura DPS un excellent choix pour la fabrication de microélectroniques.
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