Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 à vendre en France
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ID: 9301844
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Etcher, 12"
PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type
Mainframe: Centura AP
Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater)
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber C: DPS G5
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
Dry pump missing
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200
18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber D: ASP (RF type)
RF Generator: ADVANCED ENERGY
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Dry pump
2007 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Les réacteurs Centura DPS (Dynamic Process Equipment) sont un système de procédé utilisé dans la fabrication de composants microélectroniques tels que les semi-conducteurs, les puces à mémoire et les microprocesseurs. Le réacteur utilise une série de matériaux de qualité industrielle pour créer un environnement autonome dans lequel la gravure, le dépôt et le nettoyage des couches microélectroniques sont effectués de manière fiable. La chambre DPS dispose d'un large éventail de capacités et est conçue pour une configuration facile pour des projets spécifiques, offrant une excellente répétabilité, uniformité et tolérance aux défauts. Dans l'unité AMAT Centura DPS, on utilise un chauffage à haut rendement et à basse génération pour créer une température de chambre allant jusqu'à 250 ° C La température est importante pour le décapage des résines et le nettoyage des résines photosensibles. Le chauffage comprend un ventilateur à convection forcée pour assurer une température uniforme dans la chambre et une buse de douche rétractable pour répartir uniformément la chaleur. En outre, le chauffage comprend également la capacité de refroidissement de l'eau pour éviter les fuites thermiques. Une machine de distribution d'aérosols à chambre de procédé exclusive est utilisée pour contrôler la température de la chambre et prévenir la contamination. L'outil de distribution des aérosols fonctionne en séparant l'air entrant en solides et en vapeurs, puis en contrôlant la température et l'humidité de la chambre. Il utilise également un élément bi-filtrant pour s'assurer que les seuls contaminants entrant dans la chambre sont ceux nécessaires au procédé. Le contrôleur robuste est conçu pour une utilisation facile, avec un bouton à cadran unique pour ajuster les paramètres du processus et les conditions de la chambre. Il est capable de contrôler des paramètres tels que la pression, la température et l'humidité dans la chambre, ainsi qu'un certain nombre d'autres paramètres propres au procédé. La flexibilité du modèle de contrôleur facilite également la personnalisation des recettes pour les différentes zones d'application et la surveillance des processus pendant le processus de fabrication. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS est un élément important du processus de fabrication de la microélectronique. Il garantit que les processus de gravure et de dépôt sont effectués avec précision, tout en offrant un environnement dans lequel la résistance au décapage et au nettoyage peut être complétée de manière sûre et efficace. Le large éventail de capacités, la nature configurable et l'équipement de contrôle intégré font de Centura DPS un excellent choix pour la fabrication de microélectroniques.
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