Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9350294 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9350294
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Etchers, 12"
Hard Disk Drive (HDD)
2006 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS est un équipement de réacteur de pointe conçu pour fournir des solutions de gravure chimique fiables, performantes et à long terme. Ce réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à trois chanfreins est conçu pour produire des films ultra-minces, des films épais, des films uniformes et une épaisseur de film contrôlée. Le système AMAT Centura DPS offre une large gamme de capacités de gravure par plasma et est capable de supporter à la fois les processus chimiques de gravure sèche et de gravure améliorée par plasma. L'unité est également équipée d'une machine automatisée de contrôle des processus pour une surveillance précise et des processus reproductibles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS est équipé d'alimentations RF haute performance et d'électrodes d'excitation plasma, qui assurent un contrôle précis du processus de gravure, assurant fiabilité et uniformité. Le réacteur est également équipé d'un outil de contrôle de processus adaptatif qui permet d'optimiser le processus grâce à des paramètres de processus contrôlés par ordinateur. Cet atout dispose d'une interface intuitive qui permet aux utilisateurs de définir rapidement les paramètres du processus et de les ajuster au besoin. Le modèle de contrôle du processus fournit également une fonction de notification d'alarme qui surveille toute déviation du processus afin que des mesures correctives puissent être prises si nécessaire. Centura DPS est un équipement polyvalent, car il peut être utilisé pour une variété d'applications, y compris la gravure diélectrique avancée, les gravures à couche barrière exigeante, ainsi que les gravures de cuivre à haut débit. Il est également conçu pour un débit élevé et pour une utilisation simultanée avec plusieurs plaquettes, permettant des gains d'efficacité et de productivité. La conception du réacteur est optimisée pour un faible coût de propriété, avec la capacité d'ajuster les conditions de processus à la volée et un nettoyage et un entretien faciles. Le procédé PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), associé au contrôle automatisé des procédés, permet la production de films conformes avec une excellente uniformité et reproductibilité des profils de gravure. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS est un système de réacteur CVD fiable et polyvalent qui offre aux utilisateurs une large gamme de capacités de gravure plasma, de débit élevé et de contrôle automatisé des processus. Cette unité réacteur est capable d'obtenir des résultats de gravure précis, reproductibles et uniformes qui peuvent être appliqués à diverses applications de gravure.
Il n'y a pas encore de critiques