Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #9294554 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL
ID: 9294554
Taille de la plaquette: 8"
CVD System, 8".
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxL est un dispositif semi-conducteur conçu pour traiter les matériaux utilisés dans la fabrication de composants électroniques. AMAT Centura DxL s'appuie sur les techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour déposer des couches minces sur des substrats céramiques à des vitesses, épaisseurs et conformités précises. Ce réacteur combine l'automatisation des procédés, des performances fiables et une productivité accrue pour fournir d'excellents rendements et un meilleur contrôle des procédés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxL utilise l'argon comme gaz vecteur et l'azote, l'hydrogène et l'oxygène comme gaz réactif afin de déposer des films de divers matériaux. Le réacteur fonctionne dans une configuration à paroi chaude, avec quatre conduites de gaz chauffées et deux conduites de tête de douche chauffées pour délivrer les gaz réactifs. Le système est équipé de tubes en quartz de 50,8 cm (20 po) et 101,6 cm (40 po), ce qui lui permet de traiter des substrats de différentes tailles. Les films déposés par Centura DxL ont une épaisseur uniforme, avec une tolérance ± 0,1 µm pour les films d'une épaisseur supérieure à 0,3 µm. Le réacteur est capable de dépôts allant de 0,0001 µm/min à 20 µm/min. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxL intègre également des composants de diagnostic et de contrôle avancés pour assurer un processus cohérent et fiable. Son système avancé de contrôle des processus est capable d'optimiser automatiquement les processus pour maximiser le rendement. Un système avancé de suivi du cycle de vie permet aux utilisateurs de suivre les paramètres du processus et de l'équipement au fil du temps, de résoudre les problèmes potentiels et de prendre des mesures préventives avant qu'ils ne deviennent problématiques. Le réacteur AMAT Centura DxL est idéal pour les applications dans l'industrie des semi-conducteurs, y compris le dépôt de couches minces pour les grilles de transistors, le dépôt diélectrique et la métallisation. En raison de ses performances fiables, de son automatisation des procédés et de sa productivité accrue, le réacteur Centura DxL est un choix idéal pour toute application nécessitant un contrôle précis pendant le processus de dépôt.
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