Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #114705 à vendre en France

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ID: 114705
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
TEOS system, 8" 4 channel Narrow body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C – DxZ PE BSG Oxide Direct drive throttle valve AE RFG 2000-2V Astex Astron remote microwave clean 20torr Baratron 1000torr Baratron Gases (Unit MFCs): O2 10 SLM B, C, & D / O2 3 SLM A NF3 2 SLM Ar 5 SLM N2 1 SLM He 3 SLM He 10 SLM STEC LFCs TEOS Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed Currently crated (Mainframe, Pump Rack & Cables X2, Heat Exchanger, System controller, Quartz carton) Warehoused 1998 vintage.
AMAT/AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur semi-conducteur Centura DxZ est un réacteur de dépôt et de gravure conçu pour fournir une productivité plus élevée et les meilleures performances en matière de dépôt et de gravure. Il est capable de traiter une variété de procédés et d'applications avancés tels que le traitement avancé, le nettoyage, l'oxydation et la nitridation, ainsi que de sélectionner des procédés supportés par laser. AMAT Centura DxZ dispose d'une grande taille de chambre et de capacités de processus évolutives, ce qui en fait une plate-forme idéale pour les stratégies de production existantes et nouvelles à haut débit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est alimenté par une source RF multi-fréquence et multi-magnétron et intègre une gamme de technologies d'entraînement pour fournir une flexibilité de processus supérieure, permettant des opérations de dépôt ultra-basse pression à la gravure anisotrope haute densité. Il dispose également d'une suite de systèmes avancés de contrôle des processus et d'acquisition de données, donnant aux fabricants la capacité de surveiller et de contrôler leur processus avec précision et efficacité. La polyvalence de ce réacteur APPLIED MATERIALS est due à sa source innovante brevetée de magnétron RF multifréquence qui fournit un contrôle plasma complet, indépendant des autres fréquences appliquées, permettant ainsi des processus de dépôt et de gravure très complexes et sur mesure. Doté d'un accordeur d'impédance plasma avancé breveté, il assure la meilleure utilisation possible des résultats du processus. Le réacteur est conçu pour automatiser complètement les processus plasmatiques les plus difficiles avec des recettes de processus intégrées et la manipulation des plaquettes. Cette capacité permet à ses utilisateurs de développer et de déployer rapidement des recettes de processus de production. De plus, en raison de son traitement à faible contrainte, il peut être utilisé dans une large gamme de géométries de semi-conducteurs y compris des structures 3D, sans crainte de défauts induits par la contrainte. Centura DxZ est un outil de processus très flexible avec une large gamme d'améliorations spécifiques à l'application telles que la capacité de grappe et le support pour les technologies les plus récentes telles que le balisage avancé et les matériaux diélectriques haut de gamme. Avec sa conception d'ingénierie avancée et une suite de systèmes avancés de contrôle des processus et d'acquisition de données, il est la plate-forme idéale pour supporter les conceptions les plus difficiles et les nœuds technologiques. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxZ est conçu pour maximiser la productivité et le rendement, lui permettant de s'intégrer rapidement et facilement dans un environnement de fabrication moderne. Ses capacités de processus de pointe, ses niveaux d'automatisation et ses fonctionnalités extensibles permettent aux fabricants d'atteindre rapidement et efficacement leurs objectifs de production.
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