Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #120819 à vendre en France
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Vendu
ID: 120819
CVD system, 8"
Specifications:
208 Vac, 4 Wires, 3 phase, 250 A, 50/60 Hz
System rating: 90 kVA
Platform type: Centura I Body
Application: Etch
Wafer shape: SNNF
Technology: CVD
RPS: no (available for additional cost)
Chamber type/ location:
Position A: DXZ CHAMBER
Position B: DXZ CHAMBER
Position C: HDP CHAMBER
Position D: Blank
Position E: Blank
Position F: (OA) ORIENTER
System safety equipment:
CE Mark: No
EMO Switch type: Turn to release EMO ETI compliant
EMO Guard ring included
Smoke detector at controller: Yes
Smoke detector at MF No skin: No
Smoke detector at gen rack: Yes
Smoke detector at AC Rack: Yes
Water and smoke detector: Alarm
System labels: English
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH B: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift Assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH F: (OA) orienter:
Orienter: Standard
Gas delivery options:
Component selection: Standard
Valve: VERIFLO
Transducer
Regulator
Filter
Transducer displays
MFC Type: UNIT UFC-1660
Gas panel pallet A
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet B
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet C
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
General mainframe options:
Facilities type: Regulated
Facilities orientation: FACILITIES BOTTOM CONNECTION
Optical character recognition: NO
Weight dispersion plates: NONE
Service lift: NONE
Loadlock/Cassette options
Loadlock type: NARROWBODY
Loadlock platform
Narrow body loadlock extension: NOT APPLICABLE
Loadlock options: NONE
Cassette Type Supported: STANDARD
Loadlock Cover Finish: ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type: KALREZ
Wafer Mapping: ENHANCED(O.T.F)
Wafer Out of Cassette Sensor: NOT AVAILABLE
Cassette Present Sensor: NOT AVAILABLE
Integrated Cassette Sensor: YES
Transfer Chamber Options:
Transfer Ch Manual Lid Hoist: YES
Robot Type: CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option: AL Blade
On the Fly Centerfind: YES
Wafer On Blade Detector: BASIC
Loadlock Vent: BOTTOM VENT
W Throttle Valve and Baratron: NO
HP Thruput Enhancement: NO
Clear Blank Off Plates: NO
Remotes:
Controller Type: 66 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface: BOTTOM FEED
Controller Exhaust: TOP EXHAUST
Controller Cover Option: YES
Adaptor for SECS Port 25 Pos: NO
Exhaust Duct: NO
Controller IO Interface: NONE
Three Way Switch Box: NO
AC Rack: Selected Option
GFI: 100mA
AC Rack Types: 66 INCH Pri/Sec AC GEN RACK
Exhaust Collar: NONE
Primary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Secondary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Controller Facility Interface: NO UPS
MCE Secondary Generator Rack: NOT APPLICABLE
Generator rack options :
RF On indicator: YES
RF Gen rack plexiglas cover: NO
Second RF On indicator: NO
Gen rack cooling water: Gen rack water manifold
Gen rack manifold facilities: NOT APPLICABLE
RF Generator flow meter: NOT AVAILABLE
1997 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxZ est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à très grande échelle conçu pour des applications à grande échelle. AMAT Centura DxZ a une taille de chambre de 10M x 10M, et est capable de traiter des substrats aussi grands que 8.2M x 3.2M. Il est alimenté par un équipement de contrôle à microprocesseur sous vide qui est capable de créer des processus CVD à basse pression et plasma très uniformes. Le réacteur bénéficie d'un système de puissance haute densité et de plaques conformes, offrant l'uniformité ultime et la flexibilité nécessaires pour des applications avancées. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ comprend une unité optique à double faisceau qui fournit une méthode unique de réglage des paramètres de processus. Cette machine offre un mode de réglage plus intuitif depuis l'intérieur de la chambre de dépôt. En termes de compatibilité de substrat, Centura DxZ offre une compatibilité complète avec une large gamme de substrats. Il est également capable de traiter une gamme de matériaux de surface différents, dont le silicium, la silice et le quartz. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxZ peut traiter des substrats de différentes tailles, avec une largeur minimale de 0,1 d'un millimètre et une largeur maximale de 8,2 mètres. En outre, l'étape de nucléation du processus de dépôt se déroule sur une large gamme de températures, de 100 ° C à 600 ° C (selon l'application). Ceci rend le processus de dépôt plus contrôlable et moins sensible aux dommages potentiels du substrat. En termes de compatibilité des matériaux, AMAT Centura DxZ offre une compatibilité avec une large gamme de matériaux. Il peut traiter des matériaux tels que des nitrures, des borures, des nitrures et des amides, ainsi qu'un certain nombre de précurseurs organométalliques. En outre, il est également capable de manipuler une variété de gaz de gravure et de précurseurs organométalliques. Cela garantit que les procédés de dépôt et de gravure peuvent être adaptés aux besoins spécifiques. Enfin, le réacteur Centura DxZ offre également des caractéristiques de sécurité et d'environnement avancées. Il comprend un outil de refroidissement de sécurité avancé pour préserver la sécurité des procédés et un actif de filtration des particules à haut rendement pour assurer un environnement de travail propre. Le modèle de contrôle de processus personnalisé permet également une surveillance avancée des paramètres de dépôt et d'autres variables de processus. Avec ces caractéristiques, Centura DxZ est un choix idéal pour les applications industrielles à grande échelle.
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