Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #166624 à vendre en France

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ID: 166624
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
SACVD BPSG system, 8" 4 channel SMIF (Jenoptik) Wide body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C, D – SACVD DxZ Aluminum heater Direct drive throttle valve PLIS (Doped) AE RFG 2000-2V Gases (STEC MFCs) O2 3 SLM NF3 100 sccm C2F6 1 SLM O-zone 10 SLM N2 10 SLM He 3 SLM TEOS TEB TEPO Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind Synergy V452 Radisys AMAT 486 1997 vintage As-is, where-is.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est un équipement de réacteur de gravure à base de plasma conçu pour répondre aux besoins de processus et de production liés à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est conçu pour graver à travers plusieurs couches de couches d'empilement diélectrique et des budgets durs, y compris ceux en nitrure, silicium, et dioxyde de silicium. L'unité est modulaire et configurable, ce qui lui permet d'être adaptée à toute une série de conditions de processus. Le réacteur permet la gravure de matériaux avec une grande précision et fiabilité au niveau du nanomètre. Il intègre des technologies avancées de contrôle des sources et des procédés de plasma telles que des « propulseurs » bidimensionnels de puissance rf et une impédance inductive réduite. Ces technologies permettent de contrôler avec précision les paramètres de gravure au niveau du nanomètre. En outre, une machine de vision tridimensionnelle permet la métrologie du profil de la plaquette, fournissant en temps réel une rétroaction en boucle fermée à l'outil de gravure du réacteur. AMAT Centura DxZ est conçu pour fonctionner avec des taux de gravure stables et une bonne répétabilité, ce qui le rend idéal pour les applications de production. Sa conception efficace garantit des taux de gravure élevés, un faible coût de propriété et la stabilité des processus. Le modèle intégré de traitement du gaz de l'actif permet une utilisation optimale des gaz utilisés dans le processus de gravure, assurant un rendement élevé du produit, un meilleur débit et un faible coût de propriété. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ intègre également des algorithmes avancés de contrôle des processus pour permettre une gravure rapide et fiable des motifs. Centura DxZ intègre plusieurs dispositifs de sécurité pour protéger les plaquettes et le personnel contre les dommages. Il comprend un mécanisme de serrage pour protéger les plaquettes contre les blessures pendant le processus de gravure, des fonctionnalités avancées d'interface homme-machine pour prévenir les erreurs de l'utilisateur et un boîtier intégré qui contient des substances dangereuses, des émissions et des niveaux de bruit. En outre, l'équipement est conçu pour répondre aux normes SEMICONDUCTOR EQUIPMENT&MATERIALS INTERNATIONAL (SEMI) en matière d'environnement, de sécurité et de fiabilité. En résumé, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ est un système avancé de réacteur de gravure à base de plasma conçu pour répondre aux besoins de processus et de production liés à la fabrication de semi-conducteurs. Il intègre des technologies avancées de contrôle de précision au niveau du nanomètre, assurant une grande précision et fiabilité. De plus, l'unité est conçue avec des caractéristiques de sécurité, est efficace et rentable, et répond aux normes SEMI en matière d'environnement, de sécurité et de fiabilité.
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