Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9096727 à vendre en France

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ID: 9096727
Taille de la plaquette: 8"
SACVD / PECVD System, 8" Process:PE Silane (2) Chambers Top mount RPS Narrowbody loadlocks HP robot OTF Seriplex gas panel, 2 chambers Position A : DxZ PE Silane Position C: DxZ SACVD, Top mount RPS Position E: MSCD Position F: Orienter AX8200A ozone generator rack Neslab HX-300 chiller AMAT 0 heat exchanger.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est un équipement de dépôt de pointe qui combine le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le matériel de gravure dans une seule machine. Ce réacteur utilise une conception entièrement configurable de chambre à double zone qui permet diverses variantes de processus pour la production de dispositifs avancés. Le DxZ a la capacité de traiter tout type d'échantillon ou de substrat, comme les plaquettes de silicium et les lames de quartz, avec un diamètre jusqu'à 4 "et une taille d'échantillon maximale de 8x8 pouces. Le système de réacteurs AMAT Centura DxZ est conçu pour permettre un contrôle de processus de haute précision grâce à un logiciel de pointe qui permet la répétabilité et l'ajustement de divers paramètres de processus. Cet équipement est spécifiquement conçu pour traiter un large éventail de procédés de dépôt, gravure et CVD, tels que dépôt de couche atomique (ALD), pulvérisation, recuit, gravure assistée par plasma. Par exemple, le régime de température et le niveau de vide de la chambre de réaction peuvent être ajustés pour optimiser l'application respective. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ offre un contrôle supplémentaire grâce à sa technologie de laminage électrothermique intégré (ETT) et une unité de traitement de substrat entièrement automatisée. Cela en fait un choix parfait pour la lithographie et la croissance de films minces, ainsi qu'une base idéale pour la production industrielle et la recherche de dispositifs semi-conducteurs avancés. De plus, en exploitant les technologies les plus récentes dans le traitement sous vide et la surveillance intégrée en temps réel, le réacteur Centura DxZ peut facilement basculer entre différents procédés de dépôt et de gravure. Cela offre une grande polyvalence pour l'application d'un large éventail de procédés sophistiqués tels que le dépôt automatique ou les procédés à ultra-haut vide (UHV). AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est une machine de pointe pour la recherche industrielle et universitaire de pointe. Il réunit le haut contrôle des processus et la compatibilité avancée avec les différentes tailles d'échantillons et les matériaux de substrat, permettant une grande créativité et l'innovation vers la fabrication de dispositifs. C'est une machine puissante et polyvalente pour les développeurs, les chercheurs et les ingénieurs afin de maximiser leurs résultats de recherche.
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