Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9162773 à vendre en France
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Vendu
ID: 9162773
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1988
CVD System, 8"
Wafer type: Notch
Narrow body load locks
Manual lid hoist
HP Robot
(4) Chambers:
A, B, C, D – DxZ Silane oxide
Direct drive throttle valve
AE RFG 2000-2V
10Torr Baratron
100Torr Baratron
Gasses (Unit MFCs)
300cc N2O
3SLM N2O
5SLM He
3SLM CF4
150cc SiH4
5SLM N2
Seriplex gas control
Chamber E – Multi slot cool down
Bottom feed exhaust
Facilities bottom feed
OTF Centerfind
1988 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxZ est un réacteur de gravure avancée/gravure ionique réactive (RIE) conçu pour être utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Le DxZ est capable de gravure, nettoyage, implantation ionique et traitement thermique des substrats. La chambre de procédé est en acier inoxydable pour la résistance à la corrosion et dispose d'une cathode et d'une anode intégrées pour le traitement des substrats et d'un système d'automate pour la gravure précise. Le DxZ est équipé de la technologie de contrôle de gaz la plus récente, y compris un moniteur de débit de gaz et une armoire à gaz avec des buses à choix multiples pour des débits constants. Le réacteur a une configuration de pièges profonds pour maximiser la vitesse et la qualité de gravure, ainsi que deux collecteurs de gaz qui optimisent l'uniformité du débit massique. Les emboîtements et les dispositifs de sécurité assurent une procédure correcte lorsque le fonctionnement est arrêté ou redémarré, et le système d'automatisation assure une gravure précise pendant le fonctionnement. Le DxZ est équipé d'un chargeur de substrat avancé, qui traite avec précision jusqu'à trente-deux substrats de différentes tailles. Le dessus de verre borosilicate est conçu pour assurer l'uniformité de température et la dissipation de chaleur, tandis que le bouclier pulsant augmente l'uniformité du plasma et diminue le bossage des plaquettes. Les réseaux d'adaptation d'impédance RF fournissent une alimentation sûre et précise. Le DxZ est également équipé de systèmes de refroidissement avancés tels qu'une unité de refroidissement à cycle d'azote liquide et une gestion thermique RF pour des performances de refroidissement optimales. AMAT Centura DxZ est conçu pour être un réacteur de gravure/RIE de qualité de production fiable et efficace. La technologie avancée de contrôle des gaz, l'uniformité de la température des procédés, la capacité d'accueillir une large gamme de substrats jusqu'à 32 en nombre et les réseaux d'adaptation d'impédance RF assurent une vitesse de gravure maximale, la précision et la qualité du produit. Le débit élevé, l'optimisation et les performances de la DxZ en font un choix idéal pour la production de circuits intégrés pour des applications de haute valeur et de haut rendement.
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