Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9174380 à vendre en France

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ID: 9174380
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
CVD Nitride system, 8" Process: DCVD Wafer specification: Wafer shape: Notch SMIF Interface: None System information: Chamber A Chamber B Chamber D Chamber E (MS COOL) Chamber type: Chamber A: DxZ Chamber B: DxZ Chamber C: DxZ Chamber A: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber B: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber D: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve System monitor: Monitor 1: Through the wall Monitor 2: Stand alone Mainframe information: Loadlock: Narrow body Robot type: HP OTF: Yes Gas delivery option: MFC Type: Unit MFCs Filters: Millipore Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): Yes System cabinet exhaust: Top Gas pallet configuration: Chamber A Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 1 Slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs Chamber B Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 2 slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs Chamber D Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 1 Slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs 1996 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est un réacteur hautement spécialisé à haute température conçu pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs composés. Cet équipement CVD entièrement automatisé traite simultanément des plaquettes dans une seule chambre avec la possibilité de traiter des quantités de production allant jusqu'à 200 plaquettes. Le réacteur offre une gamme de températures de four pour une plus grande souplesse dans la programmation et la gestion de procédés de dépôt uniformes. Son homogénéité de température exceptionnelle de bord à bord et de surface de haut en bas du substrat permet une meilleure cohérence dans la fabrication du dispositif. Le système est équipé d'une gamme de fonctionnalités et de capacités avancées, y compris un moniteur à microbalance à cristaux de quartz (QCM), un moniteur à réflectance de quartz, une conception de joint torique, des fonctions de manutention du gaz et une unité porteuse de plaquettes. Le moniteur QCM fournit des informations en temps réel sur le dépôt et le taux de croissance, tandis que le moniteur de réflectance du quartz permet d'assurer l'uniformité de l'épaisseur du film pendant le dépôt. Le joint torique aide au processus efficace et contrôlé d'introduction des gaz nécessaires dans la chambre de réaction, tandis que les caractéristiques de manutention des gaz permettent au réacteur de maintenir des rapports de concentration de gaz idéaux. Enfin, la machine intégrée porte-plaquettes assure que les plaquettes restent immobiles pendant le processus de dépôt. Le puissant outil plasma AMAT Centura DxZ fournit cinq modules alternatifs PVT pour une large gamme d'applications, y compris l'oxydation thermique, la gravure sèche et le dépôt amélioré par plasma. Sa capacité avancée de mélange de gaz de boîte à gants permet un contrôle précis des gaz livrés, y compris leur débit et leurs niveaux de concentration. Avec son fonctionnement à haute pression, son uniformité de température inégalée et sa capacité à traiter une large gamme de tailles de plaquettes, l'actif est idéal pour produire une variété de dispositifs semi-conducteurs avancés. Parfait pour les besoins exigeants de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs composés, le Centura DxZ est doté de matériaux de pointe, d'un design robuste et d'une gamme d'options de processus avancées. Ce réacteur de classe mondiale est capable de produire de manière fiable et constante des dispositifs semi-conducteurs composés d'excellente qualité, tout en économisant du temps et des ressources pour les fabricants et les développeurs.
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