Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323 à vendre en France

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ID: 9177323
Taille de la plaquette: 8"
Chamber, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) System configuration: Chamber B: Heater: AL Clean method: RF Frequency: Dual HF + LF Manometer: Single 100 torr Gas delivery: MFC Type: STEC 4400MC Valves: FUJIKIN 5 Ra Max Filters: Millipore Transducers: MKS with display Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): No Liquid delivery type: EPLIS Injection valve: Yes LFM TEOS: Yes Chamber B Model Size NF3 STEC 4400 300 sccm C2F6 STEC 4400 2 SLM O2 SETC 4400 3 SLM N2 STEC 4400 1 SLM HE STEC 4400 3 SLM LFM LF-410A 1.5 g/m (2) Generators: HF Generator LF Generator Umbilicals: Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft RF Gen coax cable length: 50Ft Pump cable: 50Ft.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est un réacteur polyvalent conçu pour le dépôt de couches minces. Il utilise le dépôt physique en phase vapeur pour déposer des couches minces de haute qualité, ce qui le rend idéal pour la fabrication de semi-conducteurs/optoélectroniques ainsi que pour d'autres applications. Le réacteur dispose d'une grande chambre de traitement pour accueillir des substrats de différentes formes et tailles. Il utilise également un équipement de chauffage multi-zones, permettant un contrôle précis de l'énergie thermique lors du processus de dépôt. Le réacteur est conçu pour une homogénéité améliorée, permettant l'application de couches minces avec une uniformité démontrée sur la plaquette. La conception haute performance permet également de minimiser l'ingestion de particules, grâce à un système de flux de gaz optimisé pour s'assurer que les particules sont balayées par les flux d'air et d'autres gaz au fur et à mesure qu'elles émergent du processus. Le Centura présente également un certain nombre de caractéristiques uniques qui permettent de minimiser les susceptibilités et d'assurer la précision lors du dépôt de couches minces. Ses vannes à gaz de haute précision sont conçues pour réguler le débit des gaz avec précision, tandis que ses systèmes de surveillance des processus de haute précision fournissent des données sur la réponse et les performances des processus. En outre, l'unité est équipée de diagnostics avancés et de capacités de contrôleur de processus avancées qui permettent aux opérateurs de modifier les processus au besoin pour rester sur la cible. La conception de l'AMAT Centura DxZ permet également de surveiller un large éventail de réactions chimiques, de sorte que le processus de dépôt peut être étroitement dirigé et optimisé pour des résultats optimaux. Il a également un certain nombre de caractéristiques de sécurité comme un casier à gaz inerte et un compte à rebours pour la prévention des surtransformations. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est une machine avancée de dépôt de couches minces qui fournit un dépôt fiable et répétable de couches minces. Sa conception polyvalente permet un revêtement précis et uniforme, en mettant l'accent sur la fiabilité, la sécurité et la répétabilité. En combinant des caractéristiques et des procédés avancés, le Centura assure l'application de films minces avec précision et des rendements élevés.
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