Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9193775 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est conçu pour la chimie des procédés de haute performance et le dépôt physique en phase vapeur (PVD) de matériaux avancés. Le DxZ est un outil entièrement automatisé de haute précision conçu pour la production rapide et fiable de structures de film avancées. Il est conçu avec un haut niveau de temps et qualifié pour répondre aux conditions environnementales, opérationnelles et de processus les plus exigeantes. Le réacteur DxZ est équipé d'un contrôleur de débit massique MFC avancé qui est capable de contrôler le processus avec précision et dispose d'un équipement de contrôle « zone par zone » unique. Cette fonction permet de contrôler la propagation des concentrations de gaz réactifs dans le volume du réacteur et de réduire le risque de dérive du procédé. En outre, le DxZ dispose d'un système de gaz multi-zones de grande capacité qui aide à améliorer la répétabilité du processus et réduit le risque de dérive. Le Process Gadding Plasma Source (PCPS) fournit des entrées d'ICP (Inductively Coupled Plasma) uniformes à la chambre de traitement avec une grande efficacité et uniformité de processus. Le PCPS fonctionne avec une alimentation intelligente pour assurer la stabilité des pics d'impulsions et des profils plasmatiques lisses afin d'optimiser la stabilité et la répétabilité des processus. Le réacteur DxZ est conçu pour un fonctionnement robuste en salle blanche et est équipé des derniers logiciels et automatismes conformes à la salle blanche. L'unité de verrouillage de charge entièrement automatique est conçue pour une interruption minimale du processus et est équipée d'un intérieur éclairé par une lampe pour réduire la contamination. Le DxZ dispose d'une capacité avancée d'enregistrement de l'historique de charge pour suivre et documenter l'information exacte du processus pour une traçabilité et un historique de processus robustes. Une machine de contrôle de l'environnement spécialisée fournit une atmosphère conforme à la salle blanche pour un dépôt de couche fiable, répétable et uniforme. AMAT Centura DxZ dispose d'une large gamme de capacités de procédé avancées, y compris le collage de wafer, le dépôt de pulvérisateurs unidirectionnels, le dépôt d'alliages, l'ALD (dépôt de couche atomique) et l'IPVD (dépôt intérieur en phase vapeur de plasma). Cet outil est capable de traiter une grande variété de matériaux spécialisés, ce qui le rend idéal pour fabriquer des dispositifs complexes à haute performance. De plus, le DxZ dispose de modes d'exploitation flexibles, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs paramètres de processus pour obtenir les meilleurs résultats. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est conçu pour le traitement haute performance et haute efficacité d'une grande variété de matériaux avancés. Il est équipé d'un outil complet de sécurité et de contrôle des processus pour garantir des performances fiables. Le DxZ est un outil puissant pour le traitement de matériaux hautement spécialisés, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de fabrication avancées.