Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9230376 à vendre en France

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ID: 9230376
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
CVD System, 8" (3) Chambers: DxZ Chamber A: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber B: Manometer:100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber D: Manometer:100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve 1st Monitor: Through the wall 2nd Monitor: Stand alone Narrow body loadlock HP Robot OTF Valves: Unit MFCs Filters: MILIPORE Regulators: VERIFLO System cabinet exhaust: Top Single line drop Gas pallet configuration: Chamber A / Size / Model SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs NH3 / 200 sccm / Unit MFCs NF3 / 1 Slm / Unit MFCs N2O / 500 sccm / Unit MFCs N2 / 5 Slm / Unit MFCs Chamber B / Size / Model SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs NH3 / 200 sccm / Unit MFCs NF3 / 2 Slm / Unit MFCs N2O / 500 sccm / Unit MFCs N2 / 5 Slm / Unit MFCs Chamber D / Size / Model SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs NH3 / 200 sccm / Unit MFCs NF3 / 1 Slm / Unit MFCs N2O / 500 sccm / Unit MFCs N2 / 5 Slm / Unit MFCs Process: Nitride deposition (Nit. Pass.) 1996 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DxZ est un réacteur par lots au niveau de la production, capable de produire des matériaux de haute performance pour diverses applications. Le réacteur DxZ est spécialement conçu pour la production de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PE-CVD). Le réacteur DxZ est conçu avec une base tournante et un plasma multi-ciblé de 4 segments. Cela permet à l'équipement de synthétiser une variété de matériaux tels que le nitrure, l'oxyde, le carbone diamant (DLC) et les composés à base de silicium qui peuvent être adaptés à des applications spécifiques. La table tournante est également utilisée pour basculer entre différentes cibles, ce qui permet des cibles multi-segments résistantes à l'usure. En fonctionnement, le réacteur DxZ utilise un procédé en trois étapes. La première étape est l'introduction de gaz, où les gaz pénètrent dans la chambre et sont mélangés de manière appropriée pour la synthèse. Dans la deuxième étape, le plasma pulsé est généré et maintenu par un système d'alimentation qui fournit une puissance adaptée au processus. Enfin, dans la troisième étape, un substrat est placé dans la chambre, et les espèces réactives formées du mélange de champs électriques haute fréquence et de gaz sont déposées sur le substrat pour former le matériau. Le réacteur DxZ dispose également de multiples caractéristiques de sécurité pour assurer un fonctionnement fiable. Ceux-ci comprennent des dispositifs de sécurité et des capteurs de pression pour l'unité d'admission de gaz et une machine d'échappement de gaz avec minuterie réglable, ainsi qu'une filtration de particules et de gaz nocifs à haut rendement. Grâce à sa conception et à ses caractéristiques, le Corning AMAT Centura DxZ Reactor est un excellent outil pour produire des matériaux de haute qualité et performants. Sa conception robuste, ses caractéristiques de sécurité et ses matériaux de substrat multiples en font un excellent choix pour les applications commerciales, industrielles et de recherche.
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