Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9233113 à vendre en France

ID: 9233113
System, 8" Process: SIN Wafer shape: Notch Chamber type: Chamber A, B & C: DxZ (SIN) Chamber E (MS Cool) Chamber A & B & C: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve System monitor: Monitor 1: Through the wall Monitor 2: Stand alone Mainframe: Loadlock: Narrow body HP Robot OTF Gas delivery option: MFC Type: STEC 4400MC Filters: MILLIPORE Regulators: VERIFLO System cabinet exhaust: Top Single line drop Cables: Qty / Part number / Description (1) / 0150-76207 / Cable, assy main frame umbilical (1) / 0150-76208 / Cable, assy main frame umbilical (1) / 0150-76209 / Cable, assy main frame umbilical (1) / 0150-76211 / Cable, assy pneumatics umbilical (3) / 0150-76206 / Cables, assy, chamber umbilical (1) / 0150-76210 / Cable, assy, load lock umbilical (1) / 0150-76176 / Cable, assy, chamber E umbilical (1) / 0150-35880 / Cable, assy, robot controller (1) / 0150-10234 / SYS Interconnect cable (1) / 0150-76198 / Assy cable (1) / 0150-20100 / Cable, assy.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est un réacteur de gravure à plasma de haute puissance conçu pour enlever différents types de matériaux des semi-conducteurs. Il utilise une technologie brevetée de plasma haute densité (HCD) pour générer du plasma de forte puissance en utilisant une source de plasma haute densité chauffée à distance. Le processus d'enlèvement du matériau du substrat est appelé gravure, et AMAT Centura DxZ est conçu pour graver les substrats sur des couches diélectriques, métalliques et organiques avec une précision et une uniformité de surface exceptionnelles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DxZ est un équipement entièrement automatisé, composé d'une table tournante pouvant traiter jusqu'à dix substrats à la fois et d'une chambre cylindrique verticale du réacteur. Des échantillons sont placés sur la plate-forme de la table et introduits automatiquement dans la chambre où le plasma est créé. Le plasma est généré sous vide et maintenu à une certaine température et pression pour assurer une gravure aussi efficace et uniforme que possible. Le système dispose également d'une unité de détection du point d'extrémité pour surveiller avec précision le processus et détecter quand la profondeur de gravure désirée est atteinte. Le principal avantage de l'utilisation de Centura DxZ est sa capacité à graver à des taux de gravure plus élevés. Le plasma haute puissance permet un traitement plus rapide, permettant la création de dispositifs de meilleure qualité, des retournements plus rapides et des coûts de production plus faibles. En outre, la machine est conçue pour fournir une très grande uniformité de processus, ce qui signifie que plusieurs plaquettes auront des caractéristiques similaires. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DxZ est un choix idéal pour ceux qui ont besoin d'un procédé de gravure de haute puissance pour leurs substrats. Avec ses capacités d'automatisation, des taux de gravure plus élevés, une uniformité améliorée et un faible coût de possession, AMAT Centura DxZ est un choix puissant pour la gravure de substrats semi-conducteurs.
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