Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura E 5200 #118505 à vendre en France
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Vendu
ID: 118505
Taille de la plaquette: 8"
PVD frame
Partial cool down chamber
No PVD chambers.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura E 5200 est un réacteur à épitaxie épitaxiale plasma couramment utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur est un outil multi-trames, permettant deux procédés simultanés en même temps. Il est capable de différents niveaux de transmutation, allant de très bas à très haut. La température de la zone refroidie est réglable, ce qui permet un contrôle précis et stable du processus. AMAT Centura E 5200 est conçu pour des wafers jusqu'à 150 mm, offrant une capacité accrue pour augmenter la productivité. Il dispose également d'un appareil de chauffage et de refroidissement double face, permettant une meilleure uniformité de température. Cela contribue également à réduire les contraintes thermiques et à maintenir un processus cohérent et précis avec des cycles thermiques minimaux. Le réacteur est capable de procédés de polissage CMP à basse température et de co-précipitation par pulvérisation thermique à basse température (CPC) pour des dispositifs de haute qualité, sous-microns. Il dispose également d'une technologie de capacité ultra basse pour les transistors les plus performants dans le plus petit espace. Des tolérances élevées peuvent être obtenues grâce au système optimisé de mandrin électrostatique, de pince-matrices et de hucking wafer. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura E 5200 est également capable de divers procédés laser, tels que le Scan Rotation Tilt (SRT) et l'ADN. Ces procédés laser permettent des structures avancées, telles qu'une plus grande densité d'interconnexion, des portes plus étroites et des vias de silicium traversant plus fiables. Le réacteur est doté d'une unité de métrologie intégrée qui permet aux ingénieurs du procédé de surveiller le fonctionnement du dispositif et de mesurer le résultat d'un procédé particulier. En outre, de vastes outils de processus et de développement sont disponibles, permettant aux ingénieurs d'améliorer continuellement le processus. Il s'agit notamment de l'appariement RF, des mesures RF et des tests, ainsi que du contrôle FIZ (Fused Ionization Zone). Centura E 5200 est un réacteur performant, fiable et précis pour la production de dispositifs complexes et de structures avancées. Sa température de zone refroidie réglable, sa machine de chauffage et de refroidissement à double face, sa fiabilité à long terme et son outil de métrologie intégré, entre autres, en font un choix idéal pour de nombreux ingénieurs de procédé.
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