Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax CT+ #9115996 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9115996
Chambers JMF Ceramic chuck.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura eMax CT + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour la croissance épitaxiale avancée et le dépôt de couches minces et de nanomatériaux. Ce réacteur CVD comporte une chambre de procédé avec un volume actif étendu et un grand rayon annulaire. Il offre une homogénéité de température et de débit de gaz de haute précision, une conception avancée des pulvérisateurs et un environnement de processus de haute pureté, ce qui en fait le choix idéal pour relever les défis de dépôt. AMAT Centura eMax CT + est un réacteur CVD de pointe conçu pour des applications à haute performance. Son grand volume actif et son rayon annulaire le rendent idéal pour les processus de croissance multi-zones et les dépôts épitaxiaux avancés, tels que le dépôt de nanomatériaux et d'autres matériaux nécessitant un rapport d'aspect élevé et un contrôle de hauteur de pas. Le réacteur offre également un contrôle avancé des débits de gaz et des températures sur la plaquette afin d'assurer uniformité et précision. Le réacteur est alimenté par une interface utilisateur tactile avancée qui permet un accès facile aux paramètres du processus, aux recettes et aux données du processus. Il dispose également de régulateurs de pression et de température creusés intégrés pour le contrôle de la consigne, de capteurs de basse pression pour le contrôle optimal du processus, et de dispositifs de surveillance et de protection avancés pour un fonctionnement sûr du processus. L'interface utilisateur permet également une surveillance en temps réel de l'environnement de la chambre, ce qui facilite l'ajustement ou le maintien des conditions de processus au besoin. Le réacteur offre un contrôle intensif de la température de l'environnement du procédé, avec une plage allant jusqu'à 1200 ° C En outre, sa grande uniformité sur la plaquette fournit d'excellentes températures de départ et de pointe avec des ondulations à basse température sur l'ensemble de la plaquette. Sa fonction de décollage du suscepteur en option permet également une expansion thermique contrôlée de la plaquette lors des processus de dépôt. Le réacteur dispose également d'une taille compacte et d'une faible consommation d'énergie pour rendre l'installation et le fonctionnement plus faciles et plus efficaces. Il est conçu pour une utilisation efficace des ressources, et peut également être utilisé à distance à l'aide d'un ordinateur portable ou d'un appareil mobile pour augmenter la flexibilité et la productivité. En outre, son empreinte réduite réduit le besoin de grandes zones de traitement, augmentant encore l'espace et les économies de coûts. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA E-MAX CT + est conçu pour relever les défis des dépôts tout en offrant une expérience sûre, fiable et efficace. Sa conception et ses caractéristiques avancées en font un choix économique et convivial pour une large gamme de procédés de fabrication de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques