Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9260048 à vendre en France
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ID: 9260048
Taille de la plaquette: 8"
System, 8"
Model: Centura 5200 I
(3) Chambers
Centura 5200 I PH2 Mainframe
Loadlock: Wide body
SBC: V452
Robot: VHP+
Loadlock features:
Body loadlock: Wide body
Slit valve door O-ring: Viton
UNIVERSAL Wafer / Cassette sensors
Manual lid hoist
Helium cooling: MKS 649
Gas panel type: Seriplex
MFC Type: Unit 8160
No dummy wafer storage
eMax Chambers A, B and C
Gate valve: VAT
MKS Manometer, 1 Torr
Chuck: Ceramic ESC
ALCATEL ATH 1600 Turbo pump
ALCATEL ACT 1300 M Turbo pump controller
RF Match box: 0010-30686
ENI OEM 28B RF Generator
Endpoint type: Hotpack
Chamber F: ORIENT
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura eMax est une version améliorée de la série Centura de réacteurs de gravure et de dépôt avancés utilisés dans la fabrication de circuits intégrés (CI). C'est un équipement de pointe de l'industrie spécialement conçu pour fournir des performances et un contrôle de processus supérieurs. Le système est équipé d'une configuration de source de 10 plaques à chambre unique. Cette configuration permet un débit plus élevé, une meilleure productivité et une plus grande flexibilité dans les processus de gravure et de dépôt. Grâce à sa technologie active de distribution de gaz, à une gamme de sources de plasma et à une unité RF exclusive, la machine contrôle efficacement le processus de gravure et de dépôt. L'outil est jumelé à un moniteur de processus avancé intégré qui offre aux utilisateurs une meilleure capacité de cibler les résultats de processus souhaités. Il est également équipé de capacités de nettoyage intégrées et d'un filtre accordable automatisé qui aide les utilisateurs à optimiser le processus de dépôt. L'actif utilise une distribution uniforme des matériaux sur tout le substrat, ce qui élimine la nécessité d'une intervention manuelle pendant la fabrication. Cela simplifie considérablement le processus et réduit le potentiel d'erreur humaine. AMAT Centura eMax est également équipé d'un modèle de régulation de température avancé qui aide les utilisateurs à maintenir une température stable pendant le processus de gravure. On assure ainsi la gravure des multiples couches du substrat IC avec la même précision, ce qui conduit à une épaisseur couche par couche uniforme. L'équipement est également optimisé pour la vitesse et le débit, permettant aux utilisateurs de produire des IC avec un maximum d'efficacité. Cela est facilité par l'utilisation de l'intégration verticale et une conception compacte des facteurs. En plus de sa technologie de pointe, APPLIED MATERIALS Centura eMax est convivial - permettant aux utilisateurs de gérer et de surveiller facilement le système. Son interface utilisateur comprend des indices visuels intuitifs et des flux de travail interactifs qui simplifient la gestion des processus et réduisent les risques d'erreurs. Dans l'ensemble, Centura eMax est un réacteur de pointe de pointe de gravure et de dépôt conçu pour fournir des performances supérieures de l'appareil et le contrôle des processus. Il est optimisé pour la vitesse, le débit et la précision, permettant aux utilisateurs de fabriquer des IC de haute qualité avec une efficacité maximale.
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