Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMxP+ #9248728 à vendre en France
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Vendu
ID: 9248728
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Oxide etcher, 8"
NBLL, 8"
(3) Chambers
Load locks: Narrow body
Frame: Centura 5200
(3) Process chambers:
Chamber A: Hybrid, eMxP+
Chamber B: Hybrid, eMxP+
Chamber C: Hybrid, eMxP+
Chamber F: Orientor
Robots: VHP+
Chuck type: ESC
Signal tower (front): Green, yellow, red
System control and AC rack
Smoke detector
Remote UPS interface
Generator rack
Water leak detector
(3) BOC EDWARDS STP-301CB1 Pumps
Hard Disk Drive (HDD)
Line frequency and voltage: 50/60 Hz, 208 V, 3-Phase
1998 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura eMxP + est un outil critique utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. C'est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) qui fournit des taux de dépôt élevés et une excellente uniformité pour les applications de gravure et d'oxynitrure. L'eMxP + dispose d'une chambre de traitement de 400 mm de diamètre, permettant des substrats plus grands et des débits plus élevés que les réacteurs classiques. Sa conception unique de chambre/tige permet un contrôle précis de l'environnement et du processus de dépôt. L'eMxP + utilise également un combineur RF quaternaire avancé, permettant d'utiliser jusqu'à trois gaz de procédé dans n'importe quelle combinaison. Cela permet de mieux contrôler et manipuler le dépôt. L'eMxP + utilise également la dernière technologie de générateur RF pour une puissance plus élevée et une uniformité de température maximale dans toutes les applications. L'eMxP + est conçu pour l'uniformité et la répétabilité. Il dispose d'un système de réchauffement statique distinct pour assurer des températures de prétraitement uniformes, minimisant le potentiel de contamination des particules par le porte-substrat. L'unité de refroidissement du substrat aide à minimiser les variations de processus et maintient des résultats cohérents. L'eMxP + est également équipé d'une machine de contrôle avec rétroaction de la température et du profil de dépôt pour un contrôle précis de la température et du dépôt avec une uniformité maximale. L'eMxP + offre le plus haut niveau de flexibilité de processus. Avec sa conception unique de tuyaux de lumière double, l'eMxP + est capable de réaliser les rampes et les rampes les plus rapides possibles, permettant aux utilisateurs de répondre aux exigences du processus. Son débit de dépôt élevé et l'uniformité due à sa conception de chambre est idéal pour des applications de haute productivité. En plus de ses caractéristiques, AMAT Centura eMxP + a intégré la sécurité et la protection de l'environnement. Ses dissipateurs de chaleur et ses boucliers sur les parties intérieures et extérieures de l'outil aident à réduire le transfert de chaleur dans la pièce et offrent un environnement de travail plus sûr. Son atout de refroidissement conforme au DEI réduit au minimum la dissipation des gaz de gaspillage, tout en réduisant la possibilité de contamination des échantillons. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura eMxP + est un réacteur puissant et efficace conçu pour des applications de fabrication de semi-conducteurs à haute productivité. Fonctionnant jusqu'à trois gaz de procédé dans n'importe quelle combinaison et avec une chambre de traitement de 400 mm de diamètre, l'eMxP + offre les niveaux les plus élevés d'uniformité et de répétabilité des dépôts. Avec ses systèmes de chauffage et de refroidissement avancés, il offre une uniformité de température maximale et une flexibilité de processus. Il a également intégré la sécurité et la protection de l'environnement pour un environnement de travail plus sûr.
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