Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #293621413 à vendre en France
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Vendu
ID: 293621413
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 2004
System, 6"-8"
(3) ATM Epi Chambers
Flow point: Nano valve
Gas panel
M-Monitor: CRT
SIEMENS PLC with Digital flow control with interlock and passphrase
CB1 Amps: 300 A
HDD upgraded to RAID
V452 SBC Board
Serial isolator
(2) Leak detect / System reset
OTF / Centre find
Chamber A, B, C: Interlock
M/F Interlock
Loadlock Interlock
Chamber A, B, C
DI / O1
DI / O2
Chamber D: DI / O2
Chamber E: DI / O0
SBC
Video
I/O Expansion
SEI
Chamber A, B, C, D: AIO
Mainframe AI01
CH E / MF AI02
Mainframe: DI01, DI02, DI03, DI04, DI05, DI06
Mainframe Stepper 1
Robot and indexer stepper: VX2
2004 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est un réacteur spécialement conçu pour la production de dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur est capable de réaliser le dépôt en phase vapeur et le traitement épitaxial, le principal procédé de dépôt de couches minces et de créer des dispositifs multicouches tels que des circuits intégrés. Avec son débit élevé, sa température élevée et sa grande homogénéité, le réacteur AMAT Centura Epi est l'un des outils les plus puissants pour le développement de technologies avancées de semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Epi est conçu pour être un équipement robuste et fiable utilisant une technologie de procédé avancée et doté d'un environnement matériel et logiciel intégré. Il est équipé de mouvements de haute précision, d'une commande thermique et électrique avancée et d'une interface logicielle puissante, mais facile à utiliser. Les principaux composants du réacteur Centura Epi comprennent un porte-substrat émettant des électrons, un système d'injection de chicanes et de gaz pour le contrôle des produits et une production plus propre, un dispositif et une unité de contrôle à effet de champ à tamisage de gaz, une source d'évaporation à courant continu et un générateur électromagnétique et à ondes de surface. Le porte-substrat est équipé d'une gamme de dispositifs électroniques lui permettant de maintenir un profil de température uniforme. Cela permet de minimiser les fluctuations thermiques et d'assurer une croissance uniforme des couches minces et épitaxiales. La machine d'injection de chicane et de gaz supporte les capacités de contrôle du produit, permettant à l'utilisateur de contrôler et de maintenir avec précision un environnement dans des paramètres prédéterminés. Le dispositif à effet de champ de tamisage des gaz permet un contrôle des produits à haut rendement, réduisant la contamination des gaz en empêchant l'entrée de matériaux étrangers ou indésirables. La source d'évaporation à courant continu produit une évaporation très uniforme et à haut débit du matériau de n'importe quelle source, assurant une croissance et des dépôts de meilleure qualité. Enfin, le générateur électromagnétique et à ondes de surface assure la compatibilité avec la plus large gamme de composants circulants et statiques, protégeant encore la sortie contre les dommages ou les dommages. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS L'outil Centura Epi est un réacteur avancé, efficace et fiable, qui fournit un environnement de croissance élevé et uniforme pour la production de circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu avec un environnement matériel et logiciel intégré et contient une gamme de fonctionnalités avancées, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision l'environnement et de produire des résultats de haute qualité.
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