Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9137479 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Photo Utilisé AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi À vendre
Loading
Vendu
Réacteurs
Fabricant
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modèle
Centura Epi
ID: 9137479
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
CVD Reactors, 8" Chamber type: Position A : HTF Nitride Position B : HTF Nitride Position F : (CA) Single slot cooldown Electrical requirements Line voltage : 480V With transformer Line frequency : 60 HZ Line amperage : 600A System safety:  EMO Switch type : Momentary EMO EMO Guard ring HTF NITRIDE EPI RP Pressure chamber Thickness control options : BMV Third manometer : 200 TORR Leak check port RGA Port and valve HTF NITRIDE EPI : RP Pressure Chamber Selected Option Thickness Control Options BMV  Third Manometer 200 TORR Gas Line Isolation Leak check port RGA Port and Valve Gas Delivery Options:   Epi Gas Delivery Options: Gas Panel Type Surface Mount Gas Panel Gas Panel Exhaust CHAMBER B SIDE MFC : AREA,UNIT,STEC,ETC Filter Milipore Pump Purge CH A Gas Options   CH A ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 CH B Gas Options:  CH B ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 Mainframe  Loadlock      Loadlock Type : Wide body      Cassette Platform Type : Universal  Common Chamber Options :      Variable Speed Blower      SWmonitor Quartz Pyrometer Kit 2      Lamps Type USHIO BNA6      Susceptors STANDARD NCP      Brands XYCARB      Lift Pin Type HOLLOW SILICON CARBIDE      Susceptor Support Shaft NCP SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT      Tips SILICON CARBIDE REMOVABLE TIPS      Exhaust Inserts Quartz  Transfer Chamber Wafer Sensing : OTF Transfer chamber Lid Hoist : Robot :HP ENP Transfer Chamber Purge 15 SLM  Diagnostics and Control :  SecsTrac Remotes :  System controller :  Controller Plexiglass Cover  Flash Memory Drive : SCSI Vacuum pumps :  Loadlock chamber pump : Edwards QDP40  Process chamber pump : Edwards QDP80  System Monitors:  Monitor Type : CRT (1) Monitor Wall (1) Table mount Cable Lengths (Effective) :      Controller to Mainframe : 23 ft Controller to Pump : 48 ft Controller To TTW Monitor : 50 ft Controller to table Mount Monitor : 24 ft 1995 vintage.
Lire plus Fermer
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est un équipement multi-zones de pointe pour le dépôt de couches épitaxiales. Ce réacteur utilise une conception très efficace, grâce à son injecteur très optimisé, même les zones de chauffage, et le faible coefficient de température de performance. AMAT Centura Epi dispose d'un injecteur multi-zones avancé, qui permet d'assurer l'uniformité des couches épaisses en utilisant un procédé contrôlé par diffusion. Cet injecteur présente un débit élevé et un coefficient de performance de température faible, ce qui le rend très efficace dans ses opérations. Le réacteur comporte des zones de chauffage avec un traitement thermique avancé, ce qui contribue à assurer un chauffage régulier du substrat. Cela permet d'uniformiser les couches thermiques, ce qui contribue à maintenir les plus hauts rendements de couches épitaxiales pendant le processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est conçu pour être très fiable en incorporant une pompe à vide et un système de soufflante à gaz. Ces systèmes aident à contrôler la pression de vide, ainsi qu'à fournir un flux régulier de gaz. Cela garantit un environnement stable et cohérent pour le processus de dépôt. L'unité comprend également plusieurs systèmes de surveillance et de contrôle, tels que le débit, la pression et les régulateurs de température. Ces systèmes aident à maintenir la cohérence des paramètres du processus, assurant un dépôt fiable et de haute qualité des couches épitaxiales. Centura Epi comprend une interface numérique pour la collecte automatisée des données, qui aide à saisir et à analyser les données du processus de dépôt. Ces données peuvent être utilisées pour ajuster les paramètres de la machine, contribuant ainsi à optimiser les résultats du processus de dépôt. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est un outil performant conçu pour permettre le dépôt de couches épitaxiales uniformes. Ce réacteur présente une conception très efficace, grâce à son injecteur multi-zones, même des zones de chauffage, et un faible coefficient de température de performance. En outre, il comporte une gamme de systèmes de surveillance et de contrôle, ce qui contribue à assurer l'uniformité, la fiabilité et la qualité du processus de dépôt.
Lire plus Fermer
Il n'y a pas encore de critiques