Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9150159 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est un réacteur avancé conçu pour effectuer l'épitaxie (croissance de couches minces) de matériaux semi-conducteurs sur des substrats tout en assurant une homogénéité et une qualité supérieures du matériau obtenu. Le réacteur AMAT Centura Epi est capable de cultiver des matériaux dans une plage de température de 200 ° C à 900 ° C, avec une uniformité de ± 5 ° C au contact du substrat de la plaquette. Il est spécialement conçu pour réduire la densité des défauts et améliorer le rendement tout au long du processus. Le réacteur est compact et peut être utilisé dans diverses opérations de traitement de semi-conducteurs et de matériaux. Il dispose d'un lit fluidisable pouvant contenir jusqu'à 200 grammes de matière, avec un lit de 3 "de large pour accueillir de plus grands échantillons. Le lit est conçu pour obtenir un traitement uniforme du substrat et assure un haut niveau de contrôle du procédé. Il est équipé d'un ventilateur de remise en circulation qui peut contrôler les conditions de traitement dans la chambre. L'instrument est également équipé d'un dispositif de chauffage à haute température, qui assure une homogénéité à haute température sur tout le substrat. Le groupe motopropulseur permet un contrôle précis de l'écoulement uniforme à travers le chambe, avec une plage allant jusqu'à 1200 W pour le four, assurant ainsi une uniformité à haute température et de traitement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Centura Epi est également livré avec un certain nombre de fonctionnalités avancées telles qu'une conception d'interface numérique-visuelle et un contrôle de mouvement amélioré. La commande de mouvement permet un contrôle précis des temps de processus, en mode manuel et automatique. Il est également équipé d'un contrôle des processus en temps réel avec des capacités de rétroaction et d'analyse intégrées, permettant une meilleure optimisation et un meilleur contrôle des processus. Globalement, Centura Epi est un réacteur de pointe conçu pour l'épitaxie et d'autres procédés semi-conducteurs, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision les conditions de traitement du substrat et d'assurer une homogénéité et une qualité supérieures du matériau obtenu. Sa taille compacte et ses caractéristiques avancées en font une solution idéale pour les applications dans l'industrie des semi-conducteurs et de la transformation des matériaux.