Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9155788 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Epi est un réacteur d'épitaxie ultramoderne conçu pour une cohérence supérieure entre les plaquettes et une homogénéité supérieure. C'est l'un des réacteurs d'épitaxie les plus applicables et les plus polyvalents pour la fabrication de dispositifs et matériaux semi-conducteurs composés. Le réacteur AMAT Centura Epi est conçu pour être très fiable, produisant des films d'épitaxie uniformes et uniformes sur une large gamme de températures et de conditions de processus. Les principaux composants de l'équipement de réacteur Centura Epi de matériaux appliqués comprennent une plaquette de substrat, une chambre epi et la chambre de procédé associée, où le processus d'épitaxie complète a lieu. La plaquette de substrat est suspendue et chauffée à l'intérieur de la chambre epi dans un environnement sous vide chauffé. La chambre de procédé utilise plusieurs têtes de douche et un four assure un mélange uniforme de gaz et de gaz, suivi d'une effusion progressive des combinaisons de matériaux nécessaires pour former une couche épitaxiale sur la plaquette de substrat. Le procédé Centura Epi est capable de contrôler avec précision la température de la plaquette et le taux de croissance épitaxiale (EBR) dans un large éventail de conditions, assurant ainsi l'uniformité du film et la meilleure qualité des films épitaxiés. En outre, le système de réacteurs Centura Epi d'AMAT/APPLIED MATERIALS offre une consistance supérieure entre les plaquettes, protégée par un contrôle de température avancé, un mélange précis des gaz et la traçabilité des produits. Pour que l'unité fonctionne de manière optimale, le réacteur AMAT Centura Epi est conçu avec un ensemble d'optiques avancées, c'est-à-dire un four, une machine d'imagerie infrarouge et un outil d'imagerie CCD. Le four est équipé d'une fenêtre en quartz à haute température pour l'observation directe du processus de croissance épitaxiale. L'actif d'imagerie infrarouge permet une surveillance précise de la température du substrat, tandis que le modèle d'imagerie CCD est utilisé pour enregistrer le processus actif de croissance épitaxiale. La température des matériaux appliqués La chambre Centura Epi peut être surveillée et contrôlée à distance ou manuellement, avec un ensemble programmable de points de consigne de température. La stabilité thermique de l'équipement est encore améliorée grâce à l'ajout d'un élément chauffant capable de maintenir la température de la chambre épi même en cas de changement rapide des conditions de croissance (par exemple, élévation soudaine de la température). Dans l'ensemble, le réacteur Centura Epi est un système d'épitaxie polyvalent et très fiable, capable de produire des films épitaxiés de qualité supérieure avec une homogénéité supérieure et une consistance wafer-to-wafer. Grâce à son optique avancée, au contrôle de la température et à la flexibilité du procédé, le réacteur Centura Epi d'AMAT/APPLIED MATERIALS est largement reconnu comme un standard industriel pour les films épitaxiés haute performance.