Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9238130 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les réacteurs Centura Epi sont des systèmes d'épitaxie gazeuse conçus pour fonctionner en mode pseudo-batch pour la croissance de couches épitaxiales planaires, complexes ou composites. Le réacteur epi est conçu pour la recherche et la production épitaxiale haut de gamme dans des matériaux tels que le silicium, le germanium, le diamant et le sélénure de zinc. L'équipement dispose d'une spectroscopie d'émission optique ou laser accordable intégrée (TLS/OES) pour assurer la surveillance en temps réel des ingrédients du système et détecter les conditions de réaction dans le réacteur. Cela améliore les capacités de performance de l'unité, la rendant capable d'une production haut de gamme, tout en fournissant un contrôle précis du processus. AMAT Centura Epi Reactor est conçu autour de la conception de réacteurs AMAT Pro Series. Cela comprend des caractéristiques telles qu'une chambre de serrure à quartz plus grande, une grande surface traitée pour faciliter la manipulation des plaquettes et une plaque Pyrosil pour une croissance robuste. La plaque Pyrosil assure une répartition uniforme des réactifs et une exposition totale au brûleur épitaxial radial. La plaque Pyrosil est améliorée par rapport à la conception du réacteur cylindrique, ce qui élimine l'effet de hotspot causé par le brûleur radial. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Epi offre également une lampe à arc en quartz à double source pour le dépôt sur une large gamme de matériaux, permettant une répétabilité élevée pour améliorer le rendement et le contrôle des procédés. Par ailleurs, l'unité propose un régulateur de débit massique à six canaux pour un contrôle précis des gaz entrant dans le réacteur, assurant un contrôle haut de gamme des matières actives de la machine. Cela le rend idéal pour servir d'outil de recherche efficace et de production à haut rendement. L'outil offre également une interface utilisateur graphique (UI) et une architecture Process Sequencer, permettant aux utilisateurs de contrôler précieusement le processus de croissance tout en assurant des résultats robustes et reproductibles. En outre, l'interface graphique permet aux utilisateurs d'ajuster facilement un large éventail de paramètres d'actifs pour correspondre parfaitement aux exigences de chaque substrat et processus de croissance. Centura Epi Reactor est capable de produire des couches épitaxiales haut de gamme à haut débit, robustes et reproductibles tout en veillant à ce que les ingrédients du modèle soient contrôlés et contrôlés avec précision. L'unité offre une gamme complète de fonctionnalités pour contrôler avec précision le processus de croissance épitaxiale et garantir des résultats supérieurs. Cela fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur Centura Epi un choix idéal pour la recherche et la production d'épitaxie haut de gamme.