Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Etch #293798847 à vendre en France
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ID: 293798847
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Etcher, 8"
CIM: SECS
Gas panel: Seriplex
(2) IPS Chambers (A/B)
Mainframe
(2) Tilt-out Cassettes
HP Robot
(2) Open cassettes
VME Controller
(2) Wafer orienters
DI/O PCB Missing
1999 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura Etch est un outil de gravure de semi-conducteurs très précis utilisé dans le traitement moderne des semi-conducteurs. Cet graveur permet une gravure répétable et précise des matériaux semi-conducteurs. Il est basé sur une combinaison brevetée de chimies de gaz, faisceau d'électrons, et l'ingénierie avancée du système de gravure. Outre le processus fondamental de dépôt d'un oxyde PECVD pour réaliser un masque d'oxyde monté pour la gravure, cet graveur offre également une polarisation électrique de la plaquette pour obtenir un meilleur contrôle des profils de gravure et des topographies. L'outil a été conçu pour permettre une large gamme d'épaisseurs et de tailles de plaquettes avec la possibilité d'appliquer des recettes de gravure entre 30 et 1100 mm. Le but principal de l'outil AMAT Centura Etch est de graver une ou plusieurs couches dans un substrat pour obtenir des géométries précises, y compris l'isolation de tranchées peu profondes (STI) et la gravure de contact à haut rapport d'aspect. La capacité de créer des trous de contact et des vias plus serrés réduit l'espace perdu dans les applications de fond de ligne, améliorant la performance du dispositif et l'efficacité de la zone. Le graveur est également bien adapté pour le fond par gravure nécessitant des profils de gravure et des profondeurs précises. En raison de son rapport d'aspect élevé, le graveur est particulièrement utile pour créer des structures profondes telles que des vias et des pixels planes de plancher avec une largeur de ligne minimale aussi petite que 30 nm. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'outil Centura Etch est également capable de générer du plasma avec une durabilité plus de cent fois supérieure à celle du plasma généré par les systèmes à gaz traditionnels. Cela augmente la fiabilité et réduit les coûts de production et de maintenance. En outre, l'outil dispose d'une évolutivité de processus avancée pour jusqu'à 11 chambres de processus pour le traitement des plaquettes en parallèle, améliorant l'efficacité du débit. Centura Etch offre également une fonction d'auto-ajustement avancée, qui ajuste automatiquement les paramètres de l'outil pour garantir des performances de gravure optimales. Cette caractéristique permet une gravure de haute précision pour une large gamme de matériaux avec une variation minimale au sein des lots. En outre, les systèmes avancés de surveillance et de contrôle simplifient la surveillance et le fonctionnement, réduisant les temps d'arrêt pour la maintenance. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Etch est un outil de gravure à semi-conducteur très précis, économique et fiable qui permet une gravure de précision répétable des matériaux gravés. Il offre une large gamme d'options pour étendre les noeuds de production afin de répondre aux exigences élevées des applications semi-conductrices modernes et émergentes.
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