Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Gigafill #293830663 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura Gigafill est aujourd'hui le réacteur de production le plus avancé pour les procédés de gravure et de dépôt de plasma sur le marché. Ce réacteur supérieur a été conçu pour offrir des performances de procédé supérieures dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Il dispose d'un équipement de gravure et de dépôt compact, efficace et fiable avec fiabilité et fiabilité intégrée. AMAT Centura Gigafill est optimisé pour obtenir des résultats de gravure et de dépôt de haute précision, reproductibles et fiables. Il dispose d'un système plasma à impulsion rapide et polyvalent, ainsi que de systèmes d'impulsions magnétiques de pointe qui offrent une uniformité plasma quasi parfaite. Ceci, combiné à une conception unique de dôme en forme de faisceau d'électrons, permet des opérations de gravure et de dépôt précises et uniformes. Le dôme spécialement conçu réduit l'érosion de la paroi de la chambre à plasma, améliorant la durée de vie de l'appareil et la stabilité du procédé. Le réacteur est configuré pour les opérations de gravure et de dépôt, y compris la gravure standard de plasma, le dépôt de puissance, le recuit et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Les processus de gravure comprennent la capacité de graver et nettoyer simultanément une plaquette sans dommages de contour. Le procédé de dépôt de puissance permet le dépôt simultané de plusieurs plaquettes en un seul cycle, ce qui le rend idéal pour une fabrication avancée de dispositifs. Cette unité dispose d'une interface utilisateur de pointe, qui permet un fonctionnement facile et la surveillance des outils. Sa conception ergonomique augmente la productivité et réduit la fatigue des opérateurs. L'interface utilisateur est équipée d'une machine de réponse automatisée sophistiquée qui protège contre les conditions de traitement hors tolérance. L'interface utilisateur assure également une surveillance en temps réel de la composition du gaz de chambre, permettant une réponse rapide et précise aux changements dans les conditions de processus. L'expérience utilisateur est optimisée avec une structure de menu logique, des graphiques de direction codés en couleurs et des affichages conviviaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura Gigafill est construit avec des tuyauteries et des soupapes à très haute dépression pour assurer des conditions de processus stables et minimiser la contamination. Sa conception robuste offre un fonctionnement à haute température et une productivité accrue. Avec une plus grande ouverture de chambre, de plus grandes plaquettes peuvent être gravées, réduisant le temps qu'il faut pour traiter plusieurs lots de plaquettes. En outre, le réacteur est compatible avec les systèmes de télédétection, ce qui permet de suivre les plaquettes en temps réel et de traiter les plaquettes à travers l'outil simultanément. Le réacteur Centura Gigafill offre des performances et une fiabilité inégalées pour des applications avancées de fabrication de dispositifs. Avec ses capacités de gravure et de dépôt plasma de précision et son interface utilisateur intelligente, il est le choix idéal pour obtenir des résultats de gravure et de dépôt optimaux. Et avec sa conception robuste et ses capacités étendues, c'est un investissement fiable et fiable à long terme dans la production d'appareils.