Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9163132 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'équipement Centura HDP est un réacteur à plasma haute densité (HDP) utilisé pour la gravure et le dépôt. Le réacteur HDP utilise un procédé à base de gaz pour créer un environnement riche en plasma sur la surface de la plaquette afin de produire des structures submicroniques. Le système comprend une chambre de procédé, des parois de chambre, des échantillons de procédé, un générateur RF, un réseau de correspondance RF, un amplificateur de puissance RF et une unité de contrôle de l'humidité. La conception du réacteur HDP repose sur le concept bien établi de géométrie cylindrique confocale. La chambre de procédé se compose d'une série de bobines cylindriques imbriquées qui créent un champ magnétique puissant à l'intérieur de la chambre de procédé. Ceci permet un meilleur contrôle du plasma car les densités d'électrons et d'ions du plasma peuvent être manipulées dans toute la chambre. L'unité HDP utilise deux sources RF pour générer le plasma : le générateur RF, et le réseau RF match. Le générateur RF fournit la puissance initiale haute fréquence pour le plasma et le réseau RF match assure une adaptation efficace de la puissance aux parois de la chambre au fur et à mesure de l'alimentation. Ceci permet d'obtenir un dépôt et une gravure uniformes sur le substrat. La température à l'intérieur de la chambre de procédé peut également être surveillée et manipulée par le réseau RF match afin d'assurer un processus cohérent. Les parois de chambre de la machine HDP sont réalisées en matériaux diélectriques tels que le quartz et le nitrure d'aluminium afin de maximiser l'isolation électrique entre le plasma et les parois de chambre. Ceci permet un meilleur contrôle du plasma et conduit finalement à des dépôts et gravures plus uniformes sur la surface du substrat. Les parois de la chambre sont également munies d'un outil de chauffage périphérique qui est utilisé pour contrôler la température de la chambre de procédé et assurer un plasma cohérent. L'actif HDP comprend également une unité de contrôle de l'humidité qui aide à maintenir un niveau d'humidité relative (HR) constant à l'intérieur de la chambre de procédé. Pendant le processus, l'HR à l'intérieur de la chambre doit rester relativement stable pour aider à prévenir la formation d'instabilités plasmatiques. Dans l'ensemble, AMAT Centura HDP est un modèle de traitement du plasma fiable et efficace. Les bobines cylindriques imbriquées de l'équipement, le générateur RF, le réseau RF match et le système de chauffage périphérique contribuent à assurer un dépôt et une gravure uniformes sur le substrat, tandis que l'unité de contrôle de l'humidité contribue à maintenir un niveau RH stable à l'intérieur de la chambre. Cela permet d'obtenir des résultats cohérents et des structures structurelles uniformes sur le substrat traité, ce qui rend l'unité HDP idéale pour la gravure submicronique et le dépôt.