Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9188710 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura HDP est un équipement à plasma haute densité (HDP) conçu pour la production de microélectroniques. Le réacteur est capable de températures de traitement extrêmes et de niveaux de pression, permettant une large gamme d'applications dans l'industrie de la microélectronique. Le système HDP utilise une chambre à plasma cylindrique aimantée, dans laquelle un mélange de gaz inerte et de gaz de procédé est chauffé et ionisé à l'aide d'une source radio-fréquence (RF) de grande puissance. L'énergie fournie par la source RF excite les particules de gaz, qui libèrent à leur tour leur énergie par recombinaison, formant un plasma non thermique à longue durée de vie. Le plasma est ensuite utilisé pour graver, déposer ou autrement traiter un substrat de divers matériaux avec une extrême précision. Le réacteur AMAT Centura HDP est conçu pour être utilisé dans les procédés de fabrication de microcircuit et offre un contrôle supérieur sur les paramètres du procédé, permettant des niveaux plus élevés de performance du substrat. Son unité de refroidissement efficace et son faible dégazage permettent plusieurs options de processus pour le nettoyage humide, la gravure à sec et les procédés d'oxydation. La machine offre également plusieurs caractéristiques de sécurité qui permettent un fonctionnement efficace dans un environnement avec plusieurs opérateurs. L'outil de diagnostic avancé permet un suivi précis des paramètres du processus et facilite l'optimisation continue. En outre, l'atout utilise des conceptions d'antennes uniques pour améliorer la précision, ainsi que la technologie de blindage avancée pour réduire les niveaux de bruit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura HDP produit des substrats précis et performants dans le processus de fabrication de la microélectronique. Ceci est rendu possible par son contrôle de puissance précis, un contrôle de processus supérieur et un fonctionnement à faible bruit. Ces caractéristiques s'accompagnent de processus de nettoyage automatisés et de systèmes de sécurité en boucle fermée, qui garantissent le plus haut niveau de performance du substrat. Le réacteur dispose également d'une interface conviviale et de plusieurs fonctions d'enregistrement des données qui permettent d'optimiser les résultats. Cela permet d'utiliser le modèle dans des applications allant des exigences de recherche à faible débit à la production de microélectronique à haut volume.