Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266126 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura HP PVD (Physical Vapor Deposition) est un réacteur de pointe conçu pour déposer avec précision des films à couverture complète de métaux, d'alliages et de composés sur des plaquettes semi-conductrices. Ce réacteur est doté d'une source d'énergie à courant continu pulsé intégrée qui permet de contrôler le flux, d'améliorer l'uniformité et de réduire les dommages dus aux radicaux énergétiques. Le réacteur AMAT Centura HP PVD peut déposer des métaux, des silicures, des diélectriques et d'autres matériaux sur des surfaces de plaquettes, leur conférant une protection supplémentaire contre la corrosion et d'autres dommages. Il a également été conçu avec des dispositifs de sécurité supplémentaires tels qu'un bras robotique, un obturateur, un système d'alimentation en gaz de blindage, un transducteur de pression avec des capacités de surveillance et de contrôle, et des vannes d'arrêt d'urgence. Le réacteur se compose de trois sous-systèmes principaux : chambre de procédés, générateur de biais et tête de douche. La chambre de procédé est une chambre à quartz recouverte de graphite pyrolytique caloporteur ou W-C, et peut être chauffée jusqu'à 1000 ° C. Cette chambre est chargée de jusqu'à 400 plaquettes, et peut accueillir une variété de matériaux cibles. Le générateur de polarisation est utilisé pour contrôler le plasma en faisant varier la tension de polarisation vers la cible. Ce générateur permet un dépôt de film uniforme sur toutes les plaquettes de chaque lot individuel, ainsi qu'un contrôle précis de l'épaisseur de la couche. La tête de douche peut être utilisée pour injecter une douche de gaz précurseurs ou de faisceaux ioniques, pour permettre des dépôts de métaux, d'alliages et de composés à des vitesses contrôlées. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura HP est un outil très efficace pour déposer une grande variété de films sur des matériaux de substrat. Sa chambre résistante à la chaleur et la source de courant continu contrôlée avec précision permettent le dépôt de films à des vitesses beaucoup plus élevées que les réacteurs PVD classiques, améliorant la productivité et le débit. La compatibilité des plaquettes de ce système est encore élargie grâce à sa tête de douche très polyvalente, et son contrôle de processus in situ et ses vannes d'arrêt d'urgence automatisées permettent un fonctionnement sûr et efficace. Centura HP PVD Reactor est un outil fiable et efficace pour le dépôt de films à couverture uniforme et complète, et est un excellent choix pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs.