Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266424 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura HP (dépôt physique en phase vapeur) est un équipement de dépôt de nouvelle génération conçu pour fournir des capacités avancées de dépôt en couche mince haute performance. Ce système innovant fournit diverses recettes de dépôt à travers de multiples outils et chambres, et est optimisé pour augmenter la flexibilité du processus et l'efficacité de la production. Le réacteur AMAT Centura HP PVD est capable de déposer un large éventail de matériaux, y compris, mais sans s'y limiter, le cuivre, l'aluminium, le nitrure de titane et le tungstène. Il utilise des gaz multiples et sélectibles et des gaz inertes pour contrôler précisément la source de matière, et pour créer l'environnement et la pression parfaits nécessaires pour un dépôt optimal en couches minces. L'accélérateur linéaire Select Source™ (SS) et la source d'énergie Turbo- Pumped™ (TPP) assurent le maintien des pressions réactives et des températures nécessaires au processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité PVD Centura HP dispose également d'un module de levage/gravure à température contrôlée avec un four intégré à haute température. Ce module est conçu pour contrôler automatiquement la température autour du substrat pendant le processus de décollage et de gravure, afin de minimiser les effets d'un contact thermique indésirable. Il dispose également d'un balayage thermique rapide afin de profiler avec précision la croissance du film et la profondeur de gravure. Outre ses excellentes capacités PVD, le réacteur PVD Centura HP est conçu pour offrir un temps d'utilisation et une productivité supérieurs. La configuration modulaire de la machine permet un chargement rapide et facile de l'outil, et est livré avec un logiciel puissant et interface utilisateur graphique qui peut être facilement utilisé par les opérateurs de tout niveau de compétence. L'outil est également livré avec une fonction de recette automatisée, qui simplifie le processus de dépôt en économisant du temps et de l'effort aux utilisateurs. Dans l'ensemble, AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PVD Centura HP est un actif de dépôt avancé qui offre d'excellentes capacités de dépôt en couches minces et une flexibilité de procédé supérieure. Son module de levage/gravure à température contrôlée, son accélérateur linéaire Select Source, sa source d'énergie Turbo-Pompée et sa recette automatisée en font un outil idéal pour le dépôt de couches minces à haute performance.