Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9276863 à vendre en France

AMAT/AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur à PVD Centura HP est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) spécialement conçu pour assurer le dépôt uniforme et à haute performance d'une grande variété de matériaux. Il est capable de déposer une variété de métaux, y compris l'aluminium, le tungstène, le titane, le cuivre et d'autres alliages en une seule opération ou en plusieurs couches. Le système utilise une technique innovante de CVD assistée par creuset haute performance (IHPCVD), qui offre une homogénéité et une uniformité de couche supérieures à des taux de dépôt jusqu'à trois fois plus rapides que les systèmes traditionnels de PVD. AMAT Centura HP PVD peut déposer une large gamme de compositions de matériaux jusqu'à des couches de 6mm d'épaisseur, avec une exceptionnelle conformité. L'unité est extrêmement fiable et a un temps de cycle thermique rapide pour un retournement rapide. Il peut être facilement intégré dans une machine à plusieurs chambres pour fournir un débit très efficace. Le procédé CVD pour les matériaux appliqués Centura HP PVD est alimenté par un outil de filtration piloté par ordinateur chauffé par injection de gaz. Cet atout permet de créer une atmosphère de procédé définie avec précision dans la chambre de dépôt, tout en assurant une livraison cohérente des gaz réactifs et un contrôle précis de la réaction chimique. Les gaz réactifs sont introduits par un collecteur d'entrée de gaz filtré situé au centre du réacteur. Ceci assure une répartition uniforme des gaz dans la chambre de procédé, et permet également au modèle d'ajuster la composition du réactif en temps réel pour assurer une répartition et un dépôt optimaux. Une conception exclusive de la chambre de processus multi-zones offre une uniformité et un contrôle supplémentaires de l'épaisseur et de la composition de la couche sur la surface du substrat. Cette chambre utilise des parois chauffantes pour assurer une grande uniformité de dépôt sur toute la zone du substrat, tout en offrant la flexibilité de « basculer » le substrat pour obtenir des épaisseurs de couche différentes. En outre, un équipement avancé de contrôle de couche assure la précision du processus et la conductivité maximale. Le four est équipé d'une chambre d'entrée d'azote qui assure un flux d'azote uniforme à l'intérieur de la chambre, permettant au système de fonctionner à des températures et pressions élevées sans compromettre la sécurité ou l'intégrité de la chambre. Centura HP PVD est capable de déposer une large gamme de composition de matériaux, d'épaisseur, de géométries et de caractéristiques avec une précision inégalée et un rapport d'aspect élevé. L'unité a un temps de cycle thermique rapide et des capacités de production par lots jusqu'à 2,2 litres qui le rendent idéal pour une production à haut volume. Enfin, la robustesse de la machine permet son fonctionnement dans des environnements corrosifs et à haute température. Toutes ces caractéristiques font des MATÉRIAUX APPLIQUÉS/AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura HP PVD un outil de dépôt fiable et performant capable de fournir des revêtements uniformes et reproductibles pour diverses applications.