Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I DPS+ #159104 à vendre en France

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ID: 159104
Poly etcher, 8" Chamber Type CH.A DPS Poly CH.B DPS Poly CH.C DPS Poly CH.D CH.E CH.F Oriental Robot type: HP Process kit: 200MM JMF Process Kit Chuck Type: C-ESC Loadlock: Heated narrow body Turbo Pump: SEIKO SEIKI STP-A2203PV ) RF Generator: Source: AE RF5S Bias: RFPP RF5S RF Match: Match (P/N 0010-36408) EPD: Monochrometer Computer: CRT Monitor 3ea Gas: Gas panel: Seliplex gas panel MFC: Aera FC-D980C Gas Configuration: Chamber A Chamber B Chamber C Gas Size Gas Size Gas Size Line 1 Cl2 50 Cl2 50 Cl2 50 Line 2 Cl2 200 Cl2 200 Cl2 200 Line 3 HBr 200 HBr 200 HBr 200 Line 4 O2 10 O2 10 O2 10 Line 5 O2 500 O2 500 O2 500 Line 6 N2 10 N2 10 N2 10 Line 7 CF4 100 CF4 100 CF4 100 Line 8 SF6 50 SF6 50 SF6 50 Line 9 Ar 200 Ar 200 Ar 200 2001 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I DPS + est un dispositif révolutionnaire conçu pour fournir des solutions de dépôt et de gravure de semi-conducteur de haute qualité dans une installation tout-en-un. Cet équipement est capable de réaliser des procédés de dépôt et de gravure de films exceptionnellement précis et précis, permettant aux utilisateurs de produire des semi-conducteurs de la plus haute qualité dans l'industrie. AMAT Centura I DPS + Reactor est un système automatisé doté d'une plate-forme leader dans l'industrie qui intègre des technologies de pointe incluant une surveillance précise de la température et de la pression, une manipulation dynamique des plaquettes et des sources plasmatiques abondantes pour la gravure et le dépôt. Le réacteur peut être facilement configuré pour accueillir une variété de réactions, ce qui le rend bénéfique pour de nombreux utilisateurs dans l'industrie des semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I DPS + dispose d'une unité de livraison de gaz avancée qui permet aux utilisateurs d'atteindre des niveaux incroyables de précision. La machine dispose d'un contrôle actif des conditions de dépôt et de gravure, fournissant un contrôle précis de la température, de la pression et des paramètres cellulaires. L'unité utilise également une source de plasma efficace pour la gravure et le dépôt, permettant un contrôle précis de la réactivité et de la vitesse de dépôt. L'outil intègre en outre la manipulation flexible des plaquettes, lui donnant la capacité de gérer des processus tels que l'ablation laser, le traitement des biseaux de bord, les tests de conformité, et plus encore. Les capacités d'optique et d'automatisation avancées du réacteur dépassent largement ses fonctions de distribution de gaz et de source de plasma. Centura I DPS + Reactor offre aux utilisateurs des niveaux incroyables d'automatisation, avec des fonctionnalités telles que l'optimisation automatisée des recettes, le contrôle intégré au niveau du four et l'accès complet à distance sur le Web. Grâce à l'intégration du Centura Network au réacteur, les utilisateurs peuvent profiter de puissantes capacités d'analyse de processus et d'automatisation. Cette intégration permet la collecte et l'analyse de données précises, permettant aux utilisateurs d'identifier et d'optimiser les tendances indésirables, ce qui permet d'améliorer les résultats des processus. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I DPS + est un actif de dépôt et de gravure réactif très avancé qui peut être facilement intégré dans une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs. Grâce à ses composants modèles très automatisés et précis, les utilisateurs de ce réacteur peuvent obtenir des résultats cohérents et réduire leur temps de cycle de fabrication tout en améliorant la qualité. Le réacteur AMAT Centura I DPS + est un choix idéal pour l'ingénieur de fabrication de semi-conducteurs, offrant une plate-forme de pointe capable de performances exceptionnelles.
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