Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I PH2 #9227307 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I PH2 est un outil polyvalent utilisé dans la production de dispositifs à semi-conducteurs et à mémoire. Le réacteur utilise un plasma confiné magnétiquement pour déposer des couches minces sur les substrats semi-conducteurs. AMAT Centura I PH2 est équipé d'un logiciel de gestion du contrôle des processus 200MHz Powerline™, capable de contrôler jusqu'à quatre sources de plasma. La chambre du réacteur a une plage de température de -25 ° C à 40 ° C et ses dimensions mesurent 14 pouces (35,56 cm) de diamètre et 18 pouces (45,72 cm) de hauteur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I PH2 utilise un équipement de confinement magnétique pour la gravure et le dépôt de matériaux sur des substrats semi-conducteurs. Le système utilise une banque intégrée d'électroaimants qui génèrent des champs magnétiques qui contiennent et modifient le plasma. Ces champs créent un environnement stable et assurent une température uniforme à travers le substrat. Cela permet à Centura I PH2 de maintenir des niveaux élevés de contrôle pendant le traitement des plaquettes. La chambre d'AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Réacteur Centura I PH2 est complètement enfermé et chimiquement inerte. Il dispose également d'une unité de distribution sous pression qui est utilisée pour délivrer des gaz inertes. Cette machine permet de maintenir l'homogénéité du plasma et de l'épaisseur des films déposés sur la surface de la plaquette. Elle assure également que les gaz utilisés dans le processus de dépôt ne sont pas contaminés par l'air ambiant. AMAT Centura I PH2 Reactor est également équipé d'une torche haute performance, qui sert à diriger le plasma vers la plaquette. La torche est capable de fournir un flux d'énergie jusqu'à 4W/cm2 et est capable de traiter des substrats de toute taille jusqu'à 200mm. La torche dirige le plasma vers la plaquette à une vitesse de 6m/min. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I PH2 est l'un des outils les plus avancés utilisés dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs et à mémoire. Il offre un contrôle supérieur pendant le processus de dépôt et est capable d'obtenir des résultats uniformes sur l'ensemble du substrat. L'outil est également capable de manipuler un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les diélectriques et les nanomatériaux.