Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9093472 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura I est un équipement de traitement à semi-conducteurs à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température. Il est conçu pour le dépôt de films diélectriques et conducteurs sur des substrats de plaquettes. Le réacteur AMAT Centura I est un système de boîtes isolées thermiquement, conçu pour être une plate-forme efficace et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura I est équipé d'une chambre horizontale et d'un collecteur de soupapes verticales, tous deux logés dans un boîtier en acier inoxydable. L'unité utilise des flux de gaz de processus à haute température et est capable de 300 mbar de pression de fonctionnement. De plus, la chambre est revêtue d'une couche résistante au traitement du faisceau d'électrons afin de réduire les températures des points chauds et de minimiser les dommages causés par l'irradiation du faisceau électronique. Centura I offre également une gamme de fonctionnalités innovantes et de capacités de processus avancées, telles que l'interface logicielle intuitive, le centrage automatique intégré, la sauvegarde in situ et les fonctionnalités d'automatisation de contrôle des processus. Cette machine dispose également d'une visualisation en temps réel du procédé, et de la capacité de contrôler le débit de gaz et les niveaux de pression pour un contrôle précis des dépôts. L'outil consiste en une plaque de suscepteur remplaçable avec une distribution de puissance très uniforme. Cette plaque est composée d'une plaque de graphite chauffée électriquement et servant de surface de montage pour le substrat. Cette plaque de suscepteur est préchauffée avant le début du processus de dépôt et assure une répartition égale de la température. L'actif est équipé d'un modèle de positionnement à grande vitesse, qui déplace le substrat tout au long du cycle de dépôt avec une vitesse maximale homogène de 10 cm/s. En outre, l'équipement peut compenser les mouvements thermiques du substrat et est équipé d'un mécanisme de verrouillage spécialisé pour assurer un dépôt sûr et bien réparti. Le système est encore amélioré avec une unité de contrôle du débit de dérivation intégrée pour la distribution des gaz de traitement. Cette machine permet aux utilisateurs de créer des flux de gaz précis pour un contrôle précis des dépôts. De plus, l'outil comprend un module avancé d'optimisation en temps réel (RTO) pour le contrôle et l'optimisation des processus in situ. Ce module est conçu pour optimiser les paramètres du processus en temps réel et fournir des résultats de dépôt précis et précis. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor est un outil de traitement des semi-conducteurs innovant et de pointe conçu pour le dépôt de films diélectriques et conducteurs sur des substrats de plaquettes. Ce modèle est conçu pour fournir un contrôle précis des dépôts, une excellente uniformité et répétabilité. Il est également conçu pour assurer des résultats de dépôt précis et précis grâce à l'utilisation de caractéristiques spécialisées et de gaz de traitement.