Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #293608752 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + est un équipement innovant de réacteur de gravure à plasma conçu pour être un appareil ultra-performant pour la gravure de haute précision des matériaux. Ce système a été conçu pour obtenir le plus haut niveau de précision et de performance lors de la gravure des substrats semi-conducteurs. AMAT Centura II DPS + dispose d'une chambre de processus qui présente une conception améliorée et fermée qui minimise les risques de dégazage et de sécurité des opérateurs. La conception de la paroi chaude de la chambre améliore l'uniformité du plasma et réduit considérablement le choc thermique sur le matériau du substrat. Tous les matériaux passent par une tête de douche, plutôt que par une gravure directionnelle, qui fournit des profils de gravure homogènes à travers le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité Centura II DPS + dispose de plusieurs commandes qui permettent un réglage précis du processus de gravure. Il s'agit notamment de la capacité d'ajuster la température, le débit de gaz et la tension de la chambre de traitement. La température, le débit de gaz et la tension ont été optimisés pour des applications spécifiques, y compris la gravure des tranchées profondes, la gravure à grande vitesse et la gravure du rapport d'aspect. L'échappement des gaz combustibles de Centura II DPS + est maintenu sous contrôle serré, assurant le plus haut niveau de sécurité de l'opérateur. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + utilise une machine de commande avancée en boucle fermée, permettant un contrôle complexe du processus. AMAT Centura II DPS + comprend également une optique améliorée et des conduites de gaz angulées pour une uniformité accrue des axes. L'optique de l'outil augmente également le débit et permet une meilleure qualité de gravure. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura II DPS + est entièrement compatible avec AMAT FOBOS (Full Automated Multi-Operation Process Asset), qui automatise plusieurs opérations. Ce modèle automatisé est conçu pour garantir une qualité uniforme sur plusieurs lots de produits et le rendement le plus élevé possible. Dans l'ensemble, le Centura II DPS + est un réacteur de gravure à plasma avancé et fiable capable de graver avec une grande précision les substrats semi-conducteurs. Il dispose d'une chambre de processus hautement automatisée et réglable, d'une optique améliorée et de lignes de gaz angulées, et d'un équipement de contrôle en boucle fermée. Le système est également entièrement compatible avec APPLIED MATERIALS FOBOS. Tout cela fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + la solution idéale pour une gamme d'applications de gravure.