Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9174726 à vendre en France

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + est une source de dopant oxyde utilisée dans la fabrication de circuits intégrés. Il s'agit d'un réacto à plasma haute densité vertical monobloc (HDPCVD) qui peut produire une grande variété de dopants oxydes. Il est capable à la fois de traiter des dopants de type p, tels que le bore, et des dopants de type n, tels que le phosphore. Ce réacteur est bien adapté pour des applications nécessitant un profil de dopage extrêmement cohérent. AMAT Centura II DPS + utilise un équipement de contrôle sigma-net unique en son genre qui configurera ses paramètres de traitement des plaquettes de manière dynamique et autonome pour obtenir des résultats optimaux. Ce système dispose également d'une unité de distribution et d'évacuation de huit gaz qui permet un contrôle indépendant des réactifs de source, permettant des profils de dopage hautement personnalisés. Il comprend une voie motorisée multi-zones verticales qui améliore l'efficacité du flux de travail, une machine de distribution de gaz ascenseur vertical pour l'uniformité de la distribution de gaz, et un logiciel amélioré pour la configuration et la collecte de données. Le réacteur est également conçu pour assurer un contrôle précis de la vitesse de dépôt et un dopage uniforme, à l'aide d'un outil multi-zone à puissance variable à plasma alternatif. L'atout de distribution de puissance est conçu pour ajuster instantanément la puissance à chaque zone, permettant un processus de production hautement reproductible. Le réacteur dispose également d'un modèle de gestion de la température pour des résultats précis, avec des buses chauffées et un capteur de température intégré qui permettent un contrôle très précis du processus de dépôt et de diffusion. Le réacteur offre également un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité, avec un équipement à double filtre multi-zones accessible par un analyseur d'ozone UV embarqué. Ce système permet de surveiller la pureté des réactifs et de repérer les particules immatures qui peuvent causer la contamination. Il dispose également d'une unité d'auto-alignement pour une orientation précise des plaquettes et d'un gaz porteur uni-directionnel pour une meilleure uniformité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura II DPS + présente une large gamme de caractéristiques de sécurité, y compris une serrure à vide pour le confinement complet dans la chambre du réacteur et des revêtements antireflet sur l'optique à l'intérieur de la chambre de rayonnement. Il dispose également d'une machine de surveillance à distance sécurisée pour observer l'état de l'outil en temps réel, et d'un actif de journalisation pour suivre l'historique des processus et les données. Pour une disponibilité maximale et des économies de coûts, le modèle est conçu pour fonctionner avec une efficacité optimale lorsque plusieurs plaquettes sont chargées. Avec toutes ces caractéristiques, APPLIED MATERIALS/Centura II DPS + est une source fiable et efficace de dopant oxyde pour la fabrication de circuits intégrés qui nécessite un profil de dopage très cohérent.