Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9358593 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+
ID: 9358593
Taille de la plaquette: 8"
Metal etcher, 8" Wafer type: SNNF Main frame: Load lock: Wide body with auto rotation Process chambers: Chamber A/B: DPS+ Metal etch chamber Chamber C/D: ASP+ Strip chamber Position E: Fast cool down Position F: Orienter chamber Robot: HP+ Robotics with Ti doped blade Upper chamber: AL2O3 Coated Single line drop Source: GMW-25A RF Generator Bias: ACG6B-02 RF Generator MKS SmartMatch AX9030 Microwave auto tuner AX 2115 Generator BROOKS GF100 Digital Mass Flow Controller (MFC) Ceramic ESC Process kit.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura II DPS + est un réacteur de traitement de photorésistance à ultraviolets profonds (DUV) polyvalent conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable de traiter simultanément plusieurs couches de photorésist avec une très grande précision et un débit très élevé. Le réacteur dispose d'une automatisation avancée de la manutention des plaquettes, lui permettant de répondre aux exigences de production de plus en plus strictes pour les photorésistes bas k1 et bas Dk. La source de la radiation DUV est un 350W la lampe de deutérium et un réflecteur. Le réflecteur est conçu pour optimiser la dose de rayonnement DUV produite avec un faisceau monomode. Le rayonnement est dirigé vers les plaquettes d'échantillon retenues dans le suscepteur du réacteur. Le suscepteur est chauffé à une température uniforme par la lampe et la température est ensuite ajustée pour correspondre aux photorésistes utilisés lors du traitement. Le réacteur dispose également d'un mécanisme avancé de manutention des plaquettes avec un système de hucking en trois étapes qui assure une grande uniformité de processus. Ce système comprend également un mandrin sous vide pour faciliter le chargement et le déchargement. Le réacteur comporte trois pinces électrostatiques indépendantes qui maintiennent l'échantillon en place assurant des processus reproductibles et reproductibles. Le réacteur est équipé d'un système de distribution de gaz réactif avec des pressions allant jusqu'à 100 mTorr, permettant une irradiation faible en k1 et en Dk. Le réacteur présente également un faible budget thermique qui améliore l'uniformité et le débit. Il est équipé d'un régulateur de température qui règle le suscepteur à ± 1 ° C La température du suscepteur est mesurée au moyen d'un réseau thermique intégré. De plus, le réacteur dispose d'une station de nettoyage qui est utilisée régulièrement pour purger le réacteur des contaminants après chaque procédé. AMAT Centura II DPS + est un choix idéal pour tout traitement de haute qualité et de haute précision. Il est bien adapté à une utilisation dans des procédés complexes, tels que la fabrication de matériaux bas k1 et bas Dk. En tant que tel, il est un excellent choix pour la recherche et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
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