Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax #9247556 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax
ID: 9247556
System (3) Chambers.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura II eMax est un outil de dépôt de nouvelle génération pour la production à petite échelle de structures à couches minces. Il est conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et l'analyse des matériaux. L'outil dispose d'une chambre de procédé de pointe avec des capacités de haute température et de pression. Il est capable d'effectuer des opérations de dépôt de haut niveau avec précision et précision jusqu'à 20 nm. AMAT Centura II eMax est équipé d'un équipement de chargement automatisé monobloc et double wafer (wafer ArF complet). Les plaquettes de composants montent rapidement sur un lit de pédale haute performance. Le lit de plaquettes tourne et se bloque contre une bride de bord entraínée magnétiquement avant d'être transféré dans la chambre de dépôt. Il dispose de suspensions de suscepteur avancées pour améliorer les performances thermiques et la stabilité, ainsi que de techniques de dépôt avancées telles que la résonance cyclotron électronique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura II eMax dispose également d'une large gamme de systèmes de contrôle de processus. Cela comprend un système intégré de contrôle de la pression et de la température, et une surveillance active du plasma avec un spectromètre de masse intégré. L'unité comprend une machine de suivi multi-sol des parois de la chambre de dépôt pour assurer un dépôt uniforme à travers la plaquette. Le réacteur Centura II eMax comprend une variété de caractéristiques de sûreté. Il est équipé de plusieurs capteurs d'arrêt de sécurité, d'alarmes de pression et de température automatiques et de systèmes de mise à la terre intégrés. Il dispose également d'un processus de nettoyage entièrement automatisé des plaquettes pour assurer des performances cohérentes de l'appareil. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura II eMax est un outil de dépôt fiable et rentable pour la production à petite échelle. Il est idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la recherche sur les matériaux semi-conducteurs et le dépôt en couches minces de structures complexes. L'outil est livré avec une haute performance et précision pour l'optimisation du procédé, et une grande variété d'options de contrôle du procédé pour le dépôt de précision.
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