Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax #9259043 à vendre en France
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ID: 9259043
Taille de la plaquette: 8"
Oxide etcher, 8"
Gas panel type: VME2
Gas panel exhaust: Top feed
Chamber F: Orientor
Metal robot blade
Wafer type: Flat
Wafer sensors: Wafer slide
Robot type: VHP
Loadlock type: Narrow body with tilt out
System umbilicals: 75 ft
Mainframe: Centura II
Loadlock slit valves: Viton
VME Rack
Chase CRT
No subfab CRT
No OTF
Chamber A, B and C:
Chamber type: E-Max
Process: Oxide
Dual manometer: 1 Torr
Slit valve and chamber O-ring: Viton
Lid type: Dual gas feed-thru
Throttle valve, P/N: 3930-00015
ENI 28B LF Generator
RF Match, P/N: 0010-30686
Endpoint system
Chamber clamps
Process kit type: ESC
ATH 1600M Turbo pump
No heated valve stack
Gas valves: Veriflo
Chamber A gases:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type
Gas 1 / 50 sccm / C4F6 / BROOKS
Gas 2 / 100 sccm / CH2F2 / BROOKS
Gas 3 / 500 sccm / CO / BROOKS
Gas 4 / 50 sccm / C4F8 / BROOKS
Gas 5 / 1 slm / AR / BROOKS
Gas 6 / 20 sccm / O2 / Unti 8160
Gas 7 / 300 sccm / O2 / BROOKS
Gas 8 / 100 sccm / CF4 / BROOKS
Gas 9 / 100 sccm / CHF3 / BROOKS
Gas 9 / 200 sccm / ARSS / BROOKS
Chamber B gases:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type
Gas 1 / 50 sccm / C4F6 / BROOKS
Gas 2 / 100 sccm / CH2F2 / BROOKS
Gas 3 / 500 sccm / CO / BROOKS
Gas 4 / 50 sccm / C4F8 / BROOKS
Gas 5 / 1 slm / AR / BROOKS
Gas 6 / 20 sccm / O2 / BROOKS
Gas 7 / 300 sccm / O2 / BROOKS
Gas 8 / 100 sccm / CF4 / BROOKS
Gas 9 / 20 sccm / CHF3 / BROOKS
Gas 10 / 200 sccm / ARSS / BROOKS
Chamber C gases:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type
Gas 1 / 50 sccm / C4F6 / BROOKS
Gas 2 / 100 sccm / CH2F2 / BROOKS
Gas 3 / 500 sccm / CO / BROOKS
Gas 4 / 50 sccm / C4F8 / BROOKS
Gas 5 / 1 slm / AR / BROOKS
Gas 6 / 20 sccm / O2 / Unti 1660
Gas 7 / 300 sccm / O2 / BROOKS
Gas 8 / 100 sccm / CF4 / BROOKS
Gas 9 / 20 sccm / CHF3 / BROOKS
Gas 10 / 200 sccm / ARSS / BROOKS
Power supply: 208 VAC, 180 Amps, 50/60 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax est un équipement de gravure ionique réactif avancé conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Le système utilise la technologie du plasma à couplage inductif (PIC) pour permettre le traitement d'une grande précision et de faibles dommages d'un large éventail de matériaux. Il offre des profondeurs de gravure très contrôlables, ainsi qu'une excellente répétabilité, pour aider à assurer la qualité et la cohérence dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. AMAT Centura II eMax intègre plusieurs technologies de pointe pour fournir une capacité de gravure de pointe. Il s'agit notamment d'une source avancée d'ICP avec des densités de puissance et une agilité de fréquence élevées, d'une étape de positionnement avec contrôle direct de l'effecteur final de gravure, d'un traitement d'image haute résolution et d'une suite logicielle de contrôle de processus basée sur Windows. L'intégration de ces composants fournit une solution de gravure entièrement automatisée avec une large gamme de capacités. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura II eMax est conçu pour être une option économique pour la production de semi-conducteurs. Sa faible empreinte et sa vitesse de traitement élevée se combinent pour en faire un choix rentable pour des environnements de fabrication à haut volume. En outre, l'unité nécessite un minimum d'entretien et offre une gamme de fonctionnalités pour réduire encore les coûts d'exploitation. La source ICP de la machine fournit des densités de puissance élevées et une grande agilité de fréquence pour faciliter un contrôle précis de la profondeur de gravure, ainsi qu'une excellente répétabilité pour une meilleure fiabilité et un contrôle de qualité. De plus, l'étage de contrôle numérique direct (DDC) fournit un mouvement et un positionnement très précis pour un contrôle accru du processus de gravure. Cela permet d'assurer une gravure de haute qualité et de précision. Centura II eMax comprend également un outil de traitement d'image haute résolution pour faciliter le contrôle de qualité des gravures, ainsi qu'une suite logicielle de contrôle de processus basée sur Windows pour fournir aux utilisateurs un contrôle de processus puissant et facile à utiliser. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura II eMax est un actif de gravure puissant et durable qui est capable de fournir une gravure de haute précision aux matériaux semi-conducteurs avancés. Ses technologies de pointe fournissent un excellent contrôle sur le processus de gravure, tandis que sa conception économique et son logiciel de contrôle de processus facile à utiliser aident à rationaliser et à réduire le coût total de la propriété.
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