Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II IPS #115406 à vendre en France
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Vendu
ID: 115406
Style Vintage: 2001
dielectric etch system
Install type: Stand Alone
CE Marked
Cassette Interface:
(2) Bolt-on Asyst LPT-2200
Centura II M/F
Robot: HP+ Extended Reach w/Single Blade (Ceramic)
Manual Lid Lift Assist
Load Locks:
Wide-Body w/Auto-Rotation for cassettes
Enhanced wafer mapping (fast-detect)
Chambers:
Ch-E: Blank
Ch-F: Standard Orienter
Ch-A, B, C& D: IPS
ESC Pedestal w/Helium Cooling
RF Generators: Astex Model 80-510-HP
Turbo: Leybold MAG2010C
Throttle Valve: NorCal
H.O.T. Endpoint
Chiller Dome: Bay Voltex LT-HRE
Chiller Cathode: Bay Voltex LT-HRE
Gas Box Config (Pallet modules):
Bottom Feed SLD Gas Panel
Bottom Exhaust w/Vane Switch
GP Controller: VME II
75 feet Umbilicals
System Controller:
66” IPS Controller
Bottom Feed AC, Top Exhaust
30mA GFI
AC Rack:
Main AC Rack IPS Position AB
Secondary AC Rack IPS Position CD
2001 vintage
As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II IPS est un équipement de réacteur de fabrication multi-plaquettes de pointe utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système réactionnel peut effectuer des gravures ioniques réactives à haute température et haute pression (RIE), des dépôts chimiques en phase vapeur améliorés par plasma (PECVD) et d'autres procédés de fabrication avancés. L'unité est capable de traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure dans une large gamme de tailles de plaquettes jusqu'à 8 pouces. La machine est conçue pour fournir un processus de production sûr et rentable, tout en maintenant la précision et la répétabilité. AMAT Centura II IPS est équipé d'une chambre IPS unique qui dispose de deux zones de traitement indépendantes, permettant aux utilisateurs de contrôler indépendamment le débit de gaz et la température dans chacune de ces chambres. La chambre IP offre également une homogénéité de température supérieure sur l'ensemble de la chambre, ce qui donne des résultats de traitement plus uniformes. Le réacteur dispose également d'une grande plaque de keepout de chambre, ce qui permet des règles de conception plus grandes et plus complexes. L'outil utilise également une alimentation haute tension, permettant une gravure ionique réactive plus rapide. L'actif peut gérer divers processus, y compris la gravure, le dépôt, la planarisation et plusieurs autres tâches liées au processus. Le modèle peut également traiter une variété de matériaux, tels que le silicium polycristallin, le poly-SiO2, le poly-SiN et de nombreux autres matériaux. L'équipement dispose également d'une gamme de dispositifs de sécurité, tels que des volets de sécurité redondants, des vannes d'interception et des joints anti-explosion. Le système est équipé d'un logiciel et d'une électronique de pointe qui permettent un meilleur contrôle de l'environnement du réacteur, permettant une répétabilité, une précision et une qualité élevées. L'unité utilise également des analyses prédictives, permettant de prédire les défauts de procédé et le rejet des plaquettes avant la saturation. En conclusion, MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'IPS Centura II est une machine de fabrication de réacteurs multi-plaquettes très avancée et extrêmement efficace. Il est capable de traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure, tout en maintenant un haut niveau de précision et de répétabilité. La chambre IPS unique et d'autres caractéristiques de sécurité rendent l'outil sûr et rentable. Les logiciels et l'électronique de pointe offrent un meilleur contrôle sur l'environnement du réacteur, permettant des rendements plus élevés et moins de perturbations.
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