Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #184086 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura II est un outil de pointe pour la gravure et le nettoyage de divers matériaux tels que les métaux, le verre et les semi-conducteurs. Ce réacteur robuste et fiable offre une grande flexibilité en termes de taille de substrat, de profondeur de gravure et de sélectivité. Cela permet de l'utiliser pour un large éventail d'étapes de processus nécessaires à la création de produits dans l'industrie de haute technologie, tels que la fabrication de semi-conducteurs, les photomasques et les MEMS. AMAT Centura II est conçu pour gérer le traitement par lots et monocouche, il est donc adapté pour les applications monocouche et par lots. Il fonctionne à l'aide d'une technologie à plasma à couplage inductif (ICP) pour générer du plasma de gravure. Cela permet une uniformité et une sélectivité supérieures aux autres processus de gravure disponibles. La source ICP dispose d'options réglables de puissance, de régulation de pression et d'impulsions qui permettent d'ajuster le processus de gravure pour des applications spécifiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA-II est également livré avec un équipement automatisé de verrouillage de charge, permettant le chargement et le déchargement du substrat sans casser le vide. Ceci permet un haut débit et un fonctionnement efficace. De plus, le réacteur dispose d'un système automatisé de distribution de gaz et d'un générateur RF afin d'assurer un environnement précis pendant le processus de gravure. Ce réacteur est équipé d'une unité sophistiquée de contrôle des processus qui permet aux utilisateurs d'ajuster les débits de gaz, les niveaux de puissance, la pression de la chambre et d'autres variables de processus. Cette machine permet également aux utilisateurs de surveiller, enregistrer et analyser les résultats des gravures au fil du temps. Cela permet d'assurer des résultats cohérents et de haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura II est une solution idéale pour les processus de gravure difficiles, car il est à la fois fiable et efficace. Sa combinaison unique de contrôle de processus robuste et de résultats toujours précis, en font un outil indispensable pour l'industrie de haute technologie.