Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9130163 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura II est un outil utilisé pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. Ce réacteur est un équipement avancé de gravure et de dépôt de plasma à haut débit et économique, capable de soutenir la production d'une grande variété de technologies. Grâce à l'automatisation de pointe, le réacteur AMAT Centura II a la capacité de traiter une production à haut volume et de traiter une variété de tâches avec une haute qualité, répétabilité et fiabilité. La machine est constituée d'une chambre centrale de traitement, reliée à une chambre de verrouillage de charge et à une source de plasma. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA-II utilise la technologie du plasma par radiofréquence (RF) et peut être utilisé pour la gravure et le dépôt de matériaux organiques et inorganiques. La température et la pression de la chambre peuvent être contrôlées avec précision et la pression interne peut aller de 10 mTorr à 10 Torr, tandis que la température peut aller de 4˚C à 50˚C. L'outil utilise un certain nombre de sources de processus intégrées qui sont capables de contrôler les flux de gaz de procédé, la pression, la puissance RF et les configurations de champ magnétique. Le réacteur CENTURA-II est équipé d'un système d'électrodes internes sans Gridless (GIE) qui se compose de deux électrodes triangulaires concentriques et de deux anneaux concentriques. Les anneaux fournissent des champs électriques uniformes pour améliorer l'uniformité des plaquettes et des vitesses de processus plus rapides. Cette unité réduit également le coût d'entretien car il n'est pas nécessaire de remplacer la grille. Le réacteur Centura II est équipé d'une machine SAP (Sub-Atmospheric Process) qui permet des vitesses de gravure plus rapides, de faibles cycles électriques monobloc, de faibles débits de gaz et une contamination minimale. AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CENTURA-II offre des performances de haute précision, avec une précision de livraison de +/- 0,005 pouce, produisant des résultats de processus de haute qualité avec un faible taux de particules, une uniformité et un meilleur rendement des plaquettes. Le réacteur est également disponible avec une suite de logiciels avancés de surveillance et d'automatisation, ce qui permet aux utilisateurs de personnaliser l'installation en fonction de leurs besoins spécifiques. Les performances supérieures et la flexibilité du réacteur Centura II des matériaux appliqués en font l'outil de gravure et de dépôt idéal pour la production et le traitement dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est bien adapté pour effectuer des tâches de traitement rentables et complexes, avec précision et répétabilité.