Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9140763 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura II est un réacteur de traitement de substrat semi-conducteur utilisé dans la fabrication de circuits intégrés (CI) pour la fabrication de grands volumes. Il s'agit d'une version avancée du réacteur Centura original. L'AMAT Centura II est un équipement de type cluster, équipé de quatre chambreurs indépendants et de deux chambres de traitement. Les serrures de charge sont utilisées pour introduire et retirer les substrats du réacteur. Les verrous de chargement utilisent une vanne de bord de couteau et assurent l'isolement sous vide de la chambre de procédé tout en préservant l'ambiance du processus et en prévenant la contamination. Cela garantit un haut niveau de contrôle environnemental au sein des chambres de processus. Les chambres de processus disposent d'un système de surveillance de la charge qui enregistre toutes les données relatives au processus, y compris les données sur la température et la pression pendant chaque cycle. Ces données sont utilisées pour contrôler et optimiser les performances globales du réacteur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA-II est équipé d'une chambre de dépôt de couches ultra minces qui peut produire de l'oxyde de silicium, du nitrure de silicium et de nombreux autres matériaux diélectriques utilisés dans la fabrication des CI. La chambre de dépôt est équipée d'une unité d'alimentation en gaz de haute pureté et d'une tête de douche uniforme pour un dépôt soutenu à haute température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura II est également équipé d'une chambre de gravure pour gravure ionique réactive (RIE) qui élimine les matières indésirables de la chambre de procédé. Cette chambre est équipée d'une source de plasma à haute vitesse et d'un générateur de champ magnétique pour générer une gravure uniforme. Le champ magnétique est utilisé pour améliorer l'uniformité sur la surface du substrat et améliorer la vitesse de gravure et l'uniformité. La chambre est également équipée d'une source RF de forte puissance pour assurer une uniformité de plasma stable et une gravure uniforme. Le réacteur CENTURA-II est également équipé de la machine exclusive de purge hors plate-forme (OPP) de Novellus. L'outil OPP consiste en une chambre entièrement intégrée qui élimine la nécessité d'une chambre de transfert chauffée supplémentaire. Cette chambre avancée comporte des jets de gaz intégrés et un actif de recirculation de gaz qui, ensemble, permet d'éliminer les sous-produits indésirables de la chambre et de réduire les pertes parasites. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA-II est spécialement conçu pour une production à haut volume et est capable de fonctionner à des températures et des pressions élevées avec un minimum de temps d'arrêt. Il est conçu avec des systèmes de contrôle et de diagnostic avancés, ce qui en fait un réacteur de traitement de substrat hautement fiable et rentable.