Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura IPS #293829876 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS (Integrated Process System) est un système de pulvérisation perfectionné conçu pour le dépôt de couches minces destinées à la fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'une plate-forme entièrement intégrée qui permet le dépôt simultané de plusieurs couches de matériaux sur des substrats en une seule fois. L'IPS offre une plate-forme facile à utiliser pour un dépôt fiable et précis. La caractéristique la plus unique de l'IPS est sa technologie brevetée de gravure par pulvérisation. Cette technologie permet de déposer les couches et de nettoyer les gravures en une seule étape, ce qui réduit les temps de production et augmente l'efficacité. Ceci améliore le débit et augmente le rendement. De plus, l'IPS est capable de créer des structures complexes en couches, comme le cuivre-argent-or, qui sont critiques pour les matériaux diélectriques ultra-bas-k. L'IPS dispose également d'une variété de capacités avancées de contrôle des processus. Son contrôle de puissance en boucle fermée RF (CLRPC) permet un contrôle précis du niveau de puissance pour chacune de ses cibles et un contrôle précis du champ magnétique afin de maintenir la parité entre la vitesse de dépôt, la vitesse de gravure et la formation d'espèces réactives ionisées. Cela réduit les variations incontrôlées et maintient un niveau plus élevé d'intégrité et de répétabilité du produit. L'IPS offre également des capacités de passage rapide pour fournir des conditions de processus contrôlées par recette pour des économies de coûts et une évolutivité significative. Ses recettes automatisées et unifiées simplifient encore le processus et réduisent le temps et le rendement de la ferraille. Le lecteur IDP peut également être adapté au transfert, à l'alignement et au positionnement de technologies multiples, sans intervention manuelle. AMAT Centura IPS est un outil tout-en-un pour le dépôt fiable de structures complexes en couches minces, avec des capacités de contrôle des processus avancées intégrées, un contrôle automatisé de l'atmosphère des processus et des capacités améliorées d'acquisition et de traitement des données. L'IPS assure des changements rapides de configuration et des temps de cycle, offrant le contrôle de processus de wafer à wafer le plus lisse possible. Cela en fait une solution idéale pour le dépôt de diélectriques ultra bas-k et d'autres matériaux constitutifs dans la fabrication de semi-conducteurs.