Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MCVD #293595636 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura MCVD est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production de films épitaxiés fortement dopés utilisés pour la fabrication de circuits intégrés. Il est composé d'une unité de commande, d'une alimentation électrique, d'une chambre de dépôt et d'un procédé de manutention des plaquettes. L'unité de contrôle gère des paramètres opérationnels tels que le temps de dépôt, la température, la pression et les gaz réactifs. Il contient un petit microprocesseur avec une interface opérateur et une programmation PLC. L'unité de contrôle comprend également des dispositifs de mesure, des vannes et un système de stockage de données pour surveiller les opérations dans le réacteur. L'alimentation fournit l'énergie électrique nécessaire au fonctionnement des différents composants du réacteur. Il est conçu pour fournir un courant alternatif à tension et fréquence réglables pour maintenir une température constante dans la chambre de dépôt. La chambre de dépôt est un environnement contrôlé par pression et atmosphère inerte qui permet des réactions chimiques contrôlées. Il est enfermé pour empêcher les gaz réactifs de s'échapper et il protège également les réactifs des changements atmosphériques. Le procédé de manutention des plaquettes est utilisé pour préparer les plaquettes qui seront placées dans la chambre de dépôt. Il comprend un bras qui déplace la plaquette dans la chambre et hors de celle-ci. Le bras dispose d'un système de positionnement et du contrôle précis de la température nécessaire pour assurer l'uniformité du dépôt. Le réacteur AMAT Centura MCVD possède une large gamme de caractéristiques qui le rendent apte à mettre en œuvre divers procédés dans l'industrie microélectronique. Il a aussi une longue durée de vie. Sa fiabilité, sa flexibilité et sa facilité d'utilisation en font un choix privilégié pour les professionnels de la microélectronique.