Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MCVD #9383682 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura MCVD est un type de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) capable de produire une variété de matériaux monocristallins. Le CVD est un procédé utilisé pour déposer uniformément des couches minces de composés chimiques (généralement des semi-conducteurs) sur un substrat. Le procédé utilise une combinaison de gaz et de chaleur pour produire une fine couche de matériau à la surface du substrat. AMAT Centura MCVD est un réacteur à haute performance. Il est équipé d'un collecteur de gaz, de deux ascenseurs et d'une pompe à vide. Le collecteur de gaz fournit une source de gaz réactifs et porteurs qui sont envoyés dans la chambre de réaction. Les deux élévateurs de suscepteur sont utilisés pour abaisser et soulever le suscepteur (porte-substrat) et le substrat dans et hors de la chambre de réaction. La pompe à vide est utilisée pour évacuer la chambre d'éventuelles vapeurs et particules indésirables. Les réacteurs peuvent être utilisés avec de multiples sources de dépôt, ce qui permet une variété de procédés. Ce réacteur est spécialement conçu pour une utilisation avec la technique CVD, qui offre une grande maîtrise des vitesses et des propriétés de dépôt. Selon le type de matériau déposé, ce réacteur peut se déposer jusqu'à 7,5 microns par heure. De plus, en contrôlant le débit des gaz et la température du suscepteur, on peut ajuster les conditions réactionnelles pour optimiser la structure cristalline du matériau. La chambre des matériaux appliqués Réacteur Centura MCVD est équipé d'un tube à quartz pour assurer une répartition uniforme du gaz autour du substrat ainsi que d'une fenêtre à quartz qui permet une surveillance visuelle des processus. Le tube et la fenêtre sont également munis d'un obturateur automatisé pour la sécurité et pour prévenir les dommages causés par les contaminants environnementaux. Le réacteur est conçu avec un certain nombre de dispositifs de sécurité, tels qu'un système de verrouillage de la porte pour empêcher l'entrée accidentelle et un dispositif d'arrêt automatique en cas d'urgence. En outre, il est équipé d'un système de manutention du gaz pour éviter l'accumulation de matières dangereuses, tant dans la chambre qu'à l'extérieur. Le réacteur Centura MCVD est un instrument polyvalent et performant pour le processus de dépôt chimique en phase vapeur. Avec sa conception robuste, il offre un traitement fiable et efficace d'une variété de matériaux, permettant aux fabricants de produire des composants monocristallins de haute qualité.