Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #201320 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP + est un réacteur à plasma avancé utilisé pour produire des revêtements, des films et des couches minces performants. L'équipement MxP + combine une alimentation électrique universelle, un substrat en nitrure de silicium et un masque d'îlot basse pression de type tourelle. Le réacteur AMAT Centura MxP + comprend une alimentation électrique universelle contrôlable qui délivre jusqu'à 300 W de puissance. Ceci permet à ses utilisateurs de contrôler le débit plasmatique et la température du substrat pour réduire le risque de dépôt. L'alimentation électrique est conçue pour supporter une faible tension d'écoulement et une variété de gaz de procédé, tels que l'argon, l'oxygène, l'azote et l'hélium, pour optimiser le processus. Le système comprend également une unité de contrôle robuste pour surveiller chaque paramètre de processus en temps réel. Le réacteur MxP + est équipé d'un porte-substrat en nitrure de silicium résistant qui assure une excellente homogénéité à travers la plaquette, même aux basses pressions de liaison. Le porte-substrat en nitrure de silicium comporte une tourelle à masque d'îlot basse pression, destinée à assurer la sécurité du substrat sans endommagement de surface. Cet outil de tourelle est convivial, facile à utiliser et offre une grande fenêtre de flexibilité de traitement. Le réacteur MxP + dispose également d'une chambre à tête de douche en quartz de haute pureté. Cette chambre a un environnement basse pression qui aide à maintenir un processus uniforme et stable pour une large gamme d'applications de gravure et de dépôt de films. Le réacteur dispose également d'un atout de refroidissement et d'un modèle de distribution de gaz de chambre pour assurer l'uniformité de la température et du contrôle du procédé. Le réacteur MxP + est un outil de procédé plasma fiable et polyvalent qui est utilisé pour de nombreuses applications différentes, telles que les films de composition mince, les films semi-conducteurs composés, les films multicouches et l'empilement à haut rapport d'aspect activé en surface. Avec son alimentation flexible, son support de substrat uniforme et ses systèmes avancés de contrôle des processus, le MxP + est un choix idéal pour la production de films de pointe.