Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9115015 à vendre en France

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ID: 9115015
Poly etcher, 8" Wafer shape: JMF flat 208 V, 400A, 60 Hz Centura type: Centura 1 No SMIF interface Chamber A: MXP+ Chamber B: MXP+ Chamber C: MXP+ Chamber D: Empty Chamber E: Empty Chamber F: Orient Buff robot type: HP, metal blade Narrow body loadlock Standard Wafer sensor Water detector alarm Smoke detector alarm Monitor & EDP monitor: Wall mount AC Rack types: Phase 1 AC Rack MF Facilities: Bottom EMO's: Turn to release Control rack type: Phase 1 controller Chamber A: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring Standard bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Chamber B: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring Standard bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Chamber C: MXP+ Polymide ESC MKS640 IHC 1 Torr manometer Quick release lid Vitron slit valve o-ring High efficiency bias RF match OEM 12B RF gen bias No Autobias Monochrometer endpoint system ENDP30 endpoint software SEIKO SEIKI 301 turbo pump Magnet driver full installed Chamber pump not included Simply cathode type Butterfly throttle valve Vat gate valve Process kit not included Gas 1: CF4, 100, STEC SEC-4400MC Gas 2: CHF3, 300, STEC SEC-4400MC Gas 3: O2, 50, STEC SEC-4400MC Gas 4: O2, 200, STEC SEC-4400MC Gas 5: AR, 100, STEC SEC-4400MC Gas 6: N2, 100, STEC SEC-4400MC Gas delivery options: MFC maker: STEC Transducer displays: core tool MOTT filter Regulator: core tool Transducer: core tool Valve: core tool Gas connection: Sing line drop Gas line feed side: AC side Gas line feed direction: bottom Exhaust: Top Exhaust feed side: BD side Chiller: Heat exchanger for cathode: ETC Heat exchanger for wall: ETC (2) Total chiller W/ RS-485 interface Chiller valve connections: Manifold Generator rack valve connection: Manifold Valve connections: 1 each for wall and cathode per chamber (A, B, C) Chiller hose size: 3/8 Quick.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + est un réacteur semi-conducteur avancé conçu pour des applications de gravure à double métal et d'implantation ionique. Il dispose d'un équipement sous vide intégré, d'un système de préconditionnement chimique et de capacités de commande et de programmation numériques avancées, qui donnent aux utilisateurs la flexibilité de personnaliser leurs recettes de processus pour diverses utilisations. L'unité utilise une machine de distribution de gaz réactif multi-zones qui permet une distribution uniforme des gaz réactifs et un bon contrôle du procédé. En outre, l'outil comprend un ensemble unique de chambres amovibles, fournissant la capacité de personnaliser les processus. La principale caractéristique qui distingue AMAT Centura MxP + des autres réacteurs est son actif de distribution de gaz réactif multizone avancé. Ce modèle permet une distribution uniforme des gaz réactifs, permettant un contrôle précis du procédé. L'équipement multi-zones de distribution de gaz est facilité par un ensemble de buses haute pression reliées à plusieurs conduites de gaz, qui signalent les gaz à évacuer dans la chambre de réaction. Les gaz peuvent alors être mélangés pour les effets souhaités, ce qui permet à un utilisateur de personnaliser son procédé pour obtenir des résultats optimaux. Les buses sont construites en matériaux performants, assurant une longue durée de vie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Centura MxP + comprend également un ensemble unique de chambres amovibles, permettant aux utilisateurs de personnaliser des processus ou d'explorer de nouveaux paramètres. De plus, le contrôleur numérique du réacteur offre les meilleures capacités de précision et de programmation. Le contrôleur numérique avancé utilise un ensemble de capteurs et de points de rétroaction pour surveiller et contrôler les paramètres de la chambre tout au long du processus, ce qui donne un processus plus détaillé et précis qu'avec un contrôle manuel. L'unité de vide intégrée sur Centura MxP + fournit une pression de vide stable et fiable pour maintenir une réaction précise et cohérente dans la chambre. Cette machine intégrée utilise également un outil de purge séparé pour éliminer les gaz résiduels dans la chambre. En outre, l'actif utilise un modèle de préconditionnement chimique, qui permet l'introduction de gaz réactifs frais avec chaque lot. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + est conçu et fabriqué pour répondre aux normes de qualité et de performance les plus élevées. Il est construit à partir de matériaux de haute qualité, tels que l'acier inoxydable et l'aluminium, assurant qu'il est robuste et durable. En outre, l'équipement a été conçu pour être facilement entretenu et entretenu, offrant aux utilisateurs un moyen facile et économique de maintenir leurs systèmes en bon état. AMAT Centura MxP + est un réacteur évolutif, multi-zone, à commande numérique, conçu pour des applications de gravure à double métal et d'implantation ionique. Ses systèmes intégrés de vide, de préconditionnement chimique et de distribution de gaz permettent un contrôle et une personnalisation précis et uniforme des processus. De plus, ses chambres amovibles et ses capacités de programmation numérique permettent aux utilisateurs de personnaliser leurs recettes de processus en fonction de leurs besoins. Grâce à sa construction de qualité et ses caractéristiques avancées, les matériaux appliqués Centura MxP + est un excellent choix pour les scientifiques et les ingénieurs qui ont besoin de résultats fiables et précis.
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