Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9148385 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + est un réacteur à pulvérisateur à plaques parallèles haute performance conçu pour la fabrication à haut volume de plaquettes semi-conductrices composées. Le réacteur comprend une chambre de réaction supérieure en quartz et une chambre de réaction inférieure en acier inoxydable pour une homogénéité de température maximale et une excellente reproductibilité du procédé. La taille maximale autorisée du substrat est de 8 pouces. Le réacteur MxP + est capable de fonctionner à des températures allant jusqu'à 1000 ° C Il dispose d'un équipement de chauffage avancé qui minimise les gradients thermiques sur la plaquette pendant les opérations. L'élément chauffant supérieur est composé de tiges de tungstène frittées, de haute stabilité et à faible rayonnement. L'élément chauffant inférieur est également construit à partir de tiges de tungstène de haute stabilité et est équipé d'un injecteur de gaz réactif contrôlé par PLC qui donne un contrôle précis du débit et de la composition du gaz. La conception brevetée unique du réacteur MxP + garantit une excellente uniformité de température sur tout le substrat et une vitesse de réaction uniforme sur toute la surface. Le réacteur MxP + est équipé d'un système de transport de substrat de précision qui minimise les changements thermiques, augmente le débit et maintient une qualité de plaquette constante. L'unité de transport est constituée d'un bras robot programmé pour déplacer des substrats à vitesse constante à travers les chambres réactionnelles, tandis que la machine d'injection automatique permet l'injection de gaz réactif dans des positions précises à travers le substrat pour améliorer l'uniformité du dépôt. Le réacteur MxP + est conçu avec un outil de dépôt physique en phase vapeur avancé (PVD) qui permet de déposer à nouveau jusqu'à 5 couches simultanément, ce qui réduit le nombre d'étapes nécessaires. Le contrôleur de dépôt est équipé d'une capacité de réglage automatique pour améliorer encore l'uniformité et la précision des processus, et est compatible avec une variété de recettes de processus. L'actif est également capable de CMP (polissage mécanique chimique) pour la planarisation de couches déposées. Le réacteur MxP + est spécialement conçu pour les applications de fabrication de semi-conducteurs à haut volume, fournissant des procédés fiables et reproductibles qui se traduisent par des rendements élevés. Les caractéristiques de ce réacteur hautement avancé sont essentielles pour répondre aux exigences de l'environnement de production actuel et garantir la qualité et l'uniformité des produits.