Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9189048 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP est une plate-forme pour la croissance de couches minces qui est conçue pour produire des matériaux avancés de haute qualité à un prix abordable pour les marchés technologiques les plus exigeants d'aujourd'hui. AMAT Centura MxP Reactor utilise le plasma à haute énergie pour graver, cultiver et traiter une grande variété de matériaux dont le silicium, SiOx, SiNx, Ge, SiGe et C. Le réacteur est conçu pour accueillir jusqu'à trois chambres de dépôt et offre des configurations personnalisables qui sont non seulement très flexibles, mais aussi rentables. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP offre un choix de sources de pulvérisation magnétron et de sources de résonance cyclotron électronique (ECR) pour la formation de couches minces très efficaces et peu coûteuses. Le robot intégré de manutention des plaquettes permet un montage et un réglage efficaces des plaquettes et des substrats dans les chambres de processus. Le MxP est pré-configuré en usine pour les besoins spécifiques de l'utilisateur, y compris le choix des matériaux et des techniques de traitement du plasma. Centura MxP est conçu avec un certain nombre de fonctionnalités qui maximisent l'efficacité des processus et réduisent les coûts opérationnels. Le réacteur est équipé d'une surveillance des processus en temps réel, d'une double capacité de polarisation thermique et d'un contrôle de puissance agressif. En utilisant la surveillance des procédés en temps réel (RTP), le réacteur peut immédiatement reconnaître tout changement dynamique dans le processus de dépôt et ajuster automatiquement la recette du procédé pour maintenir la stabilité du procédé. De plus, la polarisation thermique double (DTN) permet d'appliquer la polarisation électrique au plasma et au substrat, favorisant un dépôt uniforme sur des cibles de grande surface et produisant des films de haute qualité. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP est livré de série avec des recettes prêtes à l'emploi, une surveillance détaillée des processus, une communication sécurisée et un diagnostic plasma avancé pour des performances de traitement maximales. Le réacteur offre une taille maximale de plaquette de 300mm, une température maximale de plaquette de 1000 ° C, et est capable de produire une large gamme de valeurs d'épaisseur de film de 10,0 à 1000,0 nm. AMAT Centura MxP Reactor est un excellent choix pour de nombreuses applications de dépôt en couches minces, offrant aux utilisateurs une plate-forme économique et hautement configurable pour le développement de matériaux de haute performance. Grâce à ses performances fiables, à son excellent contrôle des processus et à ses fonctionnalités avancées, APPLIED MATERIALS Centura MxP offre aux utilisateurs les meilleures solutions pour répondre à leurs exigences les plus exigeantes.