Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9257030 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura MxP + est un réacteur spécialisé en PVD (dépôt physique en phase vapeur) conçu pour la production à haut volume et le dépôt de films métalliques et composés. La conception modulaire de l'équipement permet une configuration de processus flexible et évolutive tout en offrant une uniformité de produit supérieure et un débit de processus élevé. La chambre de traitement fixe multi-panneaux est en acier inoxydable et a une forme unique qui permet un transfert thermique efficace et un dépôt uniforme du matériau sur l'ensemble de la plaquette. Le réacteur AMAT Centura MxP + est protégé par un système propriétaire de purification des gaz qui utilise un diffuseur pour filtrer les contaminants de l'environnement du procédé, permettant une croissance plus cohérente des matériaux. L'unité est équipée d'un ensemble robuste de fonctions de contrôle et de surveillance, y compris un ordinateur à haute résolution en temps réel, un plateau de température réglable et un canon à faisceau d'électrons avec un obturateur intégré pour un contrôle précis des dépôts. De plus, trois sources d'ions indépendantes sont disponibles, permettant un nettoyage précis des surfaces et une gravure à haute énergie. D'autres caractéristiques incluent une machine multi-entraînement, qui peut assurer un chauffage et un refroidissement rapides du substrat, ainsi que l'optimisation de l'entraînement pour une uniformité de haute épaisseur. De plus, le moniteur de gaz intégré peut détecter en temps réel de faibles niveaux d'oxygène et d'autres impuretés, contribuant ainsi à garantir une qualité uniforme des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP + est conçu pour répondre aux normes SEMI actuelles en matière de fonctionnement et de sûreté. Ses capteurs internes détectent les défauts de l'outil en fonctionnement normal et envoient une alerte au moniteur. En outre, le protocole avancé d'automatisation de l'usine SEMI S2 garantit que la sécurité de l'actif est surveillée en permanence, et il est en mesure de détecter et de prévenir toute explosion de gaz combustible inattendue. En plus d'être facile à utiliser et à entretenir, le réacteur Centura MxP + utilise également une technologie de pointe pour un contrôle précis de l'épaisseur. Le module intégré du modèle, Process Automation Layer (PAL), ajuste automatiquement le flux de processus en fonction de paramètres donnés pour obtenir une uniformité de processus optimale. Le PAL est capable d'affiner la vitesse et le profil de dépôt jusqu'à une résolution de 1 nm. Cela permet une planéité de surface maximale et la qualité du produit sans sacrifier le débit. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP + est un réacteur PVD à haute performance conçu pour la production de grands volumes et le dépôt de films métalliques et composés. Il offre des fonctions de contrôle et de surveillance robustes, un contrôle d'épaisseur précis et a été construit pour répondre aux normes de sécurité actuelles. L'équipement est également facile à utiliser et à entretenir, et ses caractéristiques avancées en font un choix idéal pour les applications de semi-conducteur et de conditionnement avancé.